反滲透膜法脫鹽原理：
反滲透是膜法水處理的重要方式，它是除鹽水、純水、高純水等制備的有效方法。它的核心技術(shù)是反滲透膜，該膜是一種用材料和加工方法制成的、具有半透性能的薄膜。它能夠在外加壓力的作用下使水溶液中的某些組分選擇性透過，從而達(dá)到水體淡化、凈化的目的。
反滲透水處理工藝基本上屬于物理方法，它在諸多方面具有傳統(tǒng)的水處理方法所沒有的優(yōu)異特點(diǎn)：
（1）反滲透是在室溫條件下，采用無相變的物理方法得以使水淡化、純化；
（2）依靠水的壓力作為動力，其能耗在眾多處理方法中；
（3）化學(xué)藥劑量少。無需酸、堿再生處理；
（4）無化學(xué)廢液及廢酸、堿排放，無酸堿中和處理過程，無環(huán)境污染；
（5）系統(tǒng)簡單、操作方便，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，兩級反滲透可取得更高質(zhì)量的純水；
（6）設(shè)備占地面積少，需要的空間也??；
3、反滲透除鹽系統(tǒng)的構(gòu)成和功能：
（1）高壓泵（本方案中選用南方泵業(yè)）
高壓泵的設(shè)置是為了使反滲透的進(jìn)水達(dá)到一定的壓力，讓逆滲透過程得以進(jìn)行，即克服滲透壓使水分子透過反滲透膜到達(dá)淡水層。
（2）反滲透膜組件和壓力容器
反滲透裝置可以去除水中絕大部分無機(jī)鹽、微粒、、以及其他溶解性物質(zhì)等。
本系統(tǒng)反滲透膜元件采用美國海德能公司生產(chǎn)的高脫鹽率低壓膜，材質(zhì)為芳香族聚酰胺復(fù)合膜。
該膜元件的使用條件為：溫度45oC，pH范圍2.0—11.0,操作壓力4.16MPa,壓力損失為0.07 Map，進(jìn)水污染指數(shù)SDI為5，進(jìn)水濁度1.0NTU，進(jìn)水余氯含量0.1ppm。
在正常使用的情況下，該膜元件的平均使用壽命為3-6年。
壓力容器即為反滲透膜元件提供工作壓力環(huán)境的外殼，本系統(tǒng)采用304不銹鋼8"-3的壓力容器，額定工作壓力300PSI，即2.1Mpa，一根壓力容器可以裝3根反滲透膜元件，系統(tǒng)共設(shè)計5根壓力容器。一級配置3根壓力容器，呈2:1排列，系統(tǒng)產(chǎn)水量≥9T以上，回收率≥55%；二級配置2根壓力容器，呈1:1排列，系統(tǒng)產(chǎn)水量≥6T以上，回收率≥70%；為了延長反滲透的使用壽命，一般建議低壓、低回收率或標(biāo)準(zhǔn)模式下運(yùn)行。
（3）自動沖洗裝置：
反滲透在運(yùn)行的過程中，濃縮過程和濃差極化將導(dǎo)致膜表面所接觸原水的固含量濃度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于原水的本體濃度。因此配備自動低壓沖洗裝置在開機(jī)前、停機(jī)后對反滲透膜進(jìn)行定時的低壓沖洗，將附于膜表面的少量污染物沖走。沖洗完成后，系統(tǒng)自動恢復(fù)到正常運(yùn)行狀態(tài)。 反滲透裝置設(shè)有自動低壓沖洗裝置，當(dāng)反滲透開機(jī)時該裝置自動發(fā)生沖洗膜的動作，以確保膜污染降到程度。
5、臭氧消毒系統(tǒng)：
為了保證產(chǎn)水的使用壽命，特設(shè)計一套水箱內(nèi)循環(huán)臭氧消毒裝置。能保證成品水3月內(nèi)不滋生和變味。其由循環(huán)泵、射流裝置、循環(huán)管路構(gòu)成。
臭氧（O3）是氧的同素異形體，它是一種具有氣味的淡藍(lán)色氣體。分子結(jié)構(gòu)呈三角形，鍵角為116°，其密度是氧氣的1.5倍，在水中的溶解度是氧氣的10倍。臭氧是一種強(qiáng)氧化劑，它在水中的氧化還原電位為2.07V，僅次于氟（2.5V），其氧化能力高于氯（1.36V）和二氧化氯（1.5V），能破壞分解的壁，很快地擴(kuò)散透進(jìn)內(nèi)，氧化分解內(nèi)部氧化葡萄糖所必須的葡萄糖氧化酶等，也可以直接與、發(fā)生作用，破壞、核糖核酸（RNA），分解脫氧核糖核酸（DNA）、RNA、蛋白質(zhì)、脂質(zhì)類和多糖等大分子聚合物，使的代謝和繁殖過程遭到破壞。被臭氧殺死是由膜的斷裂所致，這一過程被稱為消散，是由于質(zhì)在水中被粉碎引起的，在消散的條件下不可能再生。應(yīng)當(dāng)指出，與次氯酸類消毒劑不同，臭氧的殺菌能力不受PH值變化和氨的影響，其殺菌能力比氯大600-3000倍，它的滅菌、消毒作用幾乎是瞬時發(fā)生的，在水中臭氧濃度0.3-2mg/L時，0.5-1min內(nèi)就可以致死。反滲透膜元件，作為深層的過濾手段，其表面不可避免的會殘留有膠體、微生物、雜質(zhì)顆粒及難溶鹽類在其表面的析出，因此，在多種領(lǐng)域使用的反滲透裝置，一旦投入使用，終都需要清洗，只是清洗周期的長短不同而已。
通常情況下，根據(jù)污染情況的不同，反滲透清洗采用不同的清洗方式，其中包括在線清洗和離線清洗兩種。
我公司為方便廣大水處理設(shè)備新老客戶，特研發(fā)生產(chǎn)膜（反滲透膜，納濾膜，超濾膜）清洗設(shè)備，該設(shè)備盡可能的恢復(fù)膜的生產(chǎn)性能，為廣大客戶延長膜使用壽命，節(jié)省膜更換成本，為膜使用用戶量身定制膜清洗裝置。
本公司所有設(shè)備保證質(zhì)量,保修1年，維護(hù).

貴州純水設(shè)備，帶您了解反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)故障分類
我們在使用水處理設(shè)備期間，有很多因為不了解設(shè)備故障出現(xiàn)的原因而導(dǎo)致的其它問題想必大家都遇到過吧！其實(shí)，要想真正擁有這款設(shè)備，您一定要做好設(shè)備系統(tǒng)故障的了解?，F(xiàn)對反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)故障做出診斷和排除，以下內(nèi)容僅供參考！
系統(tǒng)故障的診斷和排除：
1、故障診斷：
反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)整體的故障由于故障原因的不同，表現(xiàn)出來的現(xiàn)象也不盡相同。當(dāng)出現(xiàn)性能下降的征兆時，迅速及時的采取對策尤為關(guān)鍵，這樣可以避免故障擴(kuò)大。因此在日常通過記錄數(shù)據(jù)，用圖表的形式將參數(shù)標(biāo)準(zhǔn)化，會起到事半功倍的效果。
2、反滲透純水設(shè)備膜元件性能檢查：
元件性能的復(fù)查只能在膜元件解體前實(shí)施。即使在已經(jīng)確認(rèn)有污染成分時，也應(yīng)該先測試膜元件的性能，然后再解剖膜元件分析污染物的組成，但是復(fù)測性能時可能導(dǎo)致污染物發(fā)生變化影響分析結(jié)果。因此我們希望能確保有兩支樣品，一支用于性能檢查，另一支直接解體。
反滲透膜元件的性能測試中包含以下檢測項目：真空保持檢查和水密檢測，可以確定平膜的破損和破損位置；用標(biāo)準(zhǔn)測試條件復(fù)測膜元件，對比脫鹽率、產(chǎn)水量、壓差的變化，可以判斷膜破損、膜性能劣化、污染、流路堵塞和連接件是否接觸不良。
3、反滲透設(shè)備故障的排除：
為了對污染物質(zhì)進(jìn)行推斷并判斷膜劣化的程度，需要進(jìn)行化學(xué)清洗測試。從化學(xué)清洗的效果可以反推出污垢的種類。為了選擇恰當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)，可以解體反滲透膜元件，取平膜樣品進(jìn)行化學(xué)清洗測試。膜解體后的平膜樣品可以做成Φ75毫米的樣品，用化學(xué)試劑在常溫下浸泡8小時，再和空白樣品(純水浸泡的膜片)一起進(jìn)行平膜性能測試來判斷化學(xué)清洗的效果，終確定有效的化學(xué)試劑，從而大致推斷污染物的種類，進(jìn)而可以被污染膜元件的清洗工作。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

一、學(xué)校直飲水設(shè)備的概述
現(xiàn)在的學(xué)生由于覺得學(xué)校的水不衛(wèi)生，養(yǎng)成了愛喝帶甜味、帶汽的飲料，不但容易使學(xué)生產(chǎn)生厭食厭水，長期下去還會使學(xué)生得營養(yǎng)缺乏癥。學(xué)校直飲水設(shè)備徹底解決了學(xué)校用水的安全衛(wèi)生問題。直飲水設(shè)備采用的反滲透技術(shù)凈水，另水價低廉，方便食用，直飲水設(shè)備具有節(jié)能環(huán)保的特點(diǎn)，徹底清除生產(chǎn)、包裝等不必要的浪費(fèi)，利國利民。
二、學(xué)校直飲水的優(yōu)點(diǎn)
1、采用進(jìn)口逆滲透膜(RO膜，美國水質(zhì)協(xié)會合格產(chǎn)品)，運(yùn)用目前國際上的逆滲透技術(shù)工藝制備純水。
2、五級過濾，綜合發(fā)揮各濾芯的有效作用，清除原水中的泥沙、懸浮物、膠體、有機(jī)物、重金屬、可溶性固體、、、熱源和其他有害物質(zhì)，僅保留水分子和溶解氧。
3、采用進(jìn)口靜音高壓泵，使用壽命長，運(yùn)行質(zhì)量可靠。
4、預(yù)處理濾芯采用可更換方式，可有效保證預(yù)處理效果，且更換方便，換芯價格經(jīng)濟(jì)，產(chǎn)水運(yùn)行成本低。
5、具有高壓沖洗逆滲透膜的功能，可有效延長RO膜的壽命。
6、制水過程自動控制，原水缺水停機(jī)，儲水桶水滿停機(jī)。
學(xué)校直飲水設(shè)備
三、學(xué)校直飲水設(shè)備的工藝流程
1、原水泵
原水泵是為原水預(yù)處理系統(tǒng)提供原水壓力的作用。如果原水有壓力就完全可以不用這個設(shè)備。一般要求原水壓力>=0.3MP。
2、原水箱
原水箱的作用更簡單，是儲存原水用的。這是怕原水萬一供不上作一個中轉(zhuǎn)。
3、石英砂過濾器
這個設(shè)備主要是過濾水中的微生物、塵土使原水達(dá)到清澈的目的。
4、活性炭過濾器
該設(shè)備主要是過濾水中的余氯。
5、加藥系統(tǒng)(陰陽離子交換系統(tǒng))
以前本系統(tǒng)為陰陽離子交換系統(tǒng)，但是操作起來非常不容易且費(fèi)工，費(fèi)料?，F(xiàn)在改為加藥系統(tǒng)直接向里添加阻垢劑。
四、學(xué)校直飲水設(shè)備的日常維護(hù)注意事項
4.1　低壓沖洗
定期對RO裝置進(jìn)行大、低壓力、低ph值的沖洗有利于剝除附著在RO膜表面上的污垢維持膜性能或當(dāng)進(jìn)水SDI突然升高超過5.5以上時應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗待SDI值調(diào)至合格后再開機(jī)。
4.2停運(yùn)保護(hù)
由于生產(chǎn)的波動，RO裝置不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，RO短期或長期停用時必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。
短期保存適用于停運(yùn)15d以下的RO系統(tǒng)可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護(hù)RO裝置。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)水溫20℃以上時 ，RO裝置中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì)有大量繁殖。因此建議水溫高于20℃時每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門。
長期停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護(hù)液(殺菌劑)充入反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為10%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/l、亞硫酸氫鈉1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
以前常用的殺菌劑配方是，因其具有便宜、易得的優(yōu)點(diǎn)。但近來出于對環(huán)保和人體健康的考慮，異噻唑啉酮逐漸被重視但其在反滲透保護(hù)中的應(yīng)用尚未見報道。
4.3化學(xué)清洗
在正常運(yùn)行條件下，反滲透膜也可能被無機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能需要對膜進(jìn)行化學(xué)清洗。
一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應(yīng)該改善RO的預(yù)處理系統(tǒng)調(diào)整RO的運(yùn)行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平，是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。
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