設(shè)備介紹
超濾水處理系統(tǒng)(UF) 通常作為預(yù)處理用，不過也有直接作為終端過濾凈化水用，比如做礦泉水的，都可以采用超濾工藝，像一般的河水，湖泊水處理，經(jīng)過過濾器后也可進(jìn)入超濾進(jìn)行進(jìn)-步的凈化水質(zhì)。
超濾礦泉水設(shè)備
超濾技術(shù)是去除水中懸浮物、原水動(dòng)物、、和部分膠體的過濾方法。這一技術(shù)是保證飲水安全的重要手段，目前多的還是體現(xiàn)在工業(yè)水處理中，無論是做純水還是廢水，超濾都占據(jù)不可替代的位置。
而近幾年國(guó)內(nèi)超濾膜的生產(chǎn)工藝也是不斷提高，在滿足用戶需求的情況下也成本也同時(shí)在降低。超濾膜有分為4寸(UF90)、6寸(UF160) 、8寸(UF200)、10寸(UF250) ，不同尺寸的超濾膜它的產(chǎn)水量也不一樣，通常設(shè)計(jì)單位會(huì)根據(jù)用戶需求以及其原水水質(zhì)情況來選用不同型號(hào)不同尺寸的膜，雖然超濾具有除懸浮物，等的作用，但是無論是自來水或是其它水體都需要配備預(yù)處理，以保證超濾膜的性能及使用壽命。
超濾的預(yù)處理一般都是石英砂過濾器、混凝、活性炭過濾器、保安過濾器等等。具體工藝過程說明如下:
1、石英砂/錳砂過濾器
性能:采用多層不同粒徑的石英砂濾料以能除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質(zhì)等降低水的混濁度。使水中的有機(jī)物質(zhì)、、等隨著濁度的降低而大量去除;錳砂濾器能有效降低進(jìn)水的硬度。
特點(diǎn):罐體采用玻璃纖維鋼材料，耐酸堿腐蝕。手動(dòng)控制過濾器的反洗、正洗與運(yùn)行。
超濾礦泉水生產(chǎn)設(shè)備
2.活性炭過濾器
活性炭過濾器主要是用來吸附水中的余氯，保證產(chǎn)水無余氯，還能部分去除或降低水中的色、嗅、味、有機(jī)物、重金屬和農(nóng)藥殘留等有害物質(zhì)。通常其過濾精度為100μm左右，出水濁度≤5NTU。
3、精密過濾器
內(nèi)部填充PP棉濾芯，過濾孔徑5μm,去除水中固體物質(zhì)，減少雜志對(duì)滲透膜的劃傷。
4、超濾設(shè)備
超濾膜可用于除去水中的懸浮微粒、膠體、微生物等。在水壓的作用下水分子及小分子物質(zhì)透過超濾膜，水中的懸浮微粒、膠體、微生物等則被截留在超濾膜的內(nèi)表面。由于絕大多數(shù)和微生物的直徑都大于0.1微米，比超濾膜孔徑大10倍以上，因此超濾膜能有效截留、等，從而產(chǎn)水水良。
5、反洗
經(jīng)過一段時(shí)間的過濾，超濾膜上截留物會(huì)越來越多，為了維持超濾組件產(chǎn)水量的穩(wěn)定，要定期進(jìn)行水反洗/化學(xué)加強(qiáng)反洗，通過反洗使超濾膜產(chǎn)水通量得以恢復(fù)，使設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

超純水設(shè)備系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶片制造過程中重起到至關(guān)重要的作用。在一個(gè)生產(chǎn)周期內(nèi)，一個(gè)晶片與超純水的接觸超過35次，在任何一個(gè)環(huán)節(jié)發(fā)生供水中斷或者水質(zhì)不合格都會(huì)影響晶片的質(zhì)量，甚至導(dǎo)致產(chǎn)品的報(bào)廢。水處理之家網(wǎng)認(rèn)為，穩(wěn)定可靠的超純水設(shè)備系統(tǒng)是保障半導(dǎo)體晶片可持續(xù)生產(chǎn)的關(guān)鍵。
一、半導(dǎo)體晶片超純水設(shè)備系統(tǒng)簡(jiǎn)介
本方案以半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)用超純水設(shè)備系統(tǒng)為案例，詳細(xì)講解205T/H的超大型超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)特點(diǎn)、工藝流程、超純水供水網(wǎng)管設(shè)計(jì)等。
對(duì)于原水中的各種雜質(zhì)，可以選用的去除方式多種多樣，每一種凈化設(shè)備基于不同的凈化原理，對(duì)各種雜質(zhì)的去除效率各不相同，甚至某些設(shè)備在去除特定雜質(zhì)的同時(shí)會(huì)引起其他雜質(zhì)數(shù)值的上升。超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)的過程就是在滿足水質(zhì)要求的前提下尋找一個(gè)投資與操作優(yōu)化的凈化設(shè)備組合方案的過程。不同凈化設(shè)備對(duì)各種雜質(zhì)的去除效率。對(duì)超純水水質(zhì)的指標(biāo)要求：
二、半導(dǎo)體晶片超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)特點(diǎn)
典型的超純水設(shè)備系統(tǒng)流程可分為部分：預(yù)處理、初級(jí)制水、精制水。在全球水資源日益匱乏的今日，超純水的回收再利用已經(jīng)成為超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)必不可缺的一部分。一般而言，經(jīng)工藝機(jī)臺(tái)使用的超純水除了PH值，電導(dǎo)率，TOC等指標(biāo)較差外，大部分指標(biāo)都優(yōu)于市政供水，只要有針對(duì)性地設(shè)計(jì)一些凈化設(shè)備，完全可以將超過70％的超純水供水回收再利用，達(dá)到節(jié)水環(huán)保的目的。當(dāng)然，回收率越高，其設(shè)備投資及操作運(yùn)行成本也越高。本系統(tǒng)的流程設(shè)計(jì)充分考慮到工程水質(zhì)要求高，水量超過250噸小時(shí)的特點(diǎn)，各部分的設(shè)計(jì)兼顧經(jīng)濟(jì)性和可操作性，巧妙地將超純水回收利用系統(tǒng)融合于制備系統(tǒng)。
三、半導(dǎo)體晶片超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程
自來水—加藥—多介質(zhì)過濾器—常壓脫氣塔—換熱器—10μm過濾器—一級(jí)反滲透 —預(yù)處理水箱—活性炭過濾器—離子交換器—去離子水箱—紫外線殺菌燈—1μm過濾器—二級(jí)反滲透—中間水箱—去有機(jī)物紫外線—混床—0.45μm過濾器—膜脫氣裝置—純水設(shè)備—冷卻箱—去有機(jī)物紫外線—拋光床—超濾系統(tǒng)—輸送管網(wǎng)—用水點(diǎn)
四、半導(dǎo)體晶片超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案
預(yù)處理：
1.PAC、NaCl0加藥：絮凝劑PAC有助于原水中的膠體粒子和懸浮固體凝集成易被多介質(zhì)過濾器的大基團(tuán)，而NaCl0具有殺菌，分解有機(jī)物的作用。
2.多介質(zhì)過濾器：去除原水中經(jīng)絮凝的膠體粒子和懸浮固體，可通過反沖洗再生。H，S0 加藥，常壓脫氣塔：加H，S0 可將原水中的HC0 一生成C02在常壓脫氣塔中脫除，常壓脫氣塔是針對(duì)本工程大水量的特點(diǎn)而設(shè)計(jì)的，可以提高真空膜脫氣的除氧效率，減少昂貴的脫氣膜組的使用量。
3.熱交換器：在冬季原水水溫較低時(shí)使用熱交換器加熱反滲透進(jìn)水以提高反滲透系統(tǒng)的除鹽率，保證出水水質(zhì)。
4.10 u m預(yù)過濾器：過濾顆粒雜質(zhì)，保護(hù)反滲透膜。
5.一級(jí)反滲透：反滲透對(duì)除了溶解氣體以外的大部分雜質(zhì)都有較好的脫除效果。不同材質(zhì)的反滲透膜操作條件不同，脫除雜質(zhì)的效率也不同。醋酸纖維(CA)膜。醋酸纖維(CA)膜脫除率比復(fù)合(TFC)膜低，本設(shè)計(jì)用于一級(jí)反滲透，作為預(yù)處理階段去除大量離子等雜質(zhì)之用。反滲透膜需定期加藥清洗以去除表面污染及結(jié)垢，保證反滲透效率并延長(zhǎng)膜的壽命。
6.預(yù)處理水箱：儲(chǔ)存一級(jí)反滲透產(chǎn)水，收集工藝機(jī)臺(tái)使用過的回收純水。
7.活性炭過濾器：表面具有無數(shù)10—10 A微孔的活性炭吸附預(yù)處理水尤其是回收純水中的有機(jī)物，并通過反沖洗再生。
8.離子交換塔：離子交換塔包括陽(yáng)離子樹脂床和陰離子樹脂床，主要為去除回收純水中的各種陰陽(yáng)離子，降低電導(dǎo)率而設(shè)計(jì)，同時(shí)可進(jìn)一步純化預(yù)處理水，保證水質(zhì)離子交換樹脂定時(shí)用酸堿再生后可反復(fù)使用。
初級(jí)制水：
1.去離子水箱：儲(chǔ)存去離子水，調(diào)節(jié)和平衡預(yù)處理系統(tǒng)和初級(jí)制水系統(tǒng)的運(yùn)行。
2.紫外線殺菌：波長(zhǎng)254nm的紫外線燈可達(dá)到殺菌的作用。
3.1um過濾器：過濾顆粒雜質(zhì)，保護(hù)反滲透膜。
4.二級(jí)反滲透： 采用復(fù)合(TFC)膜的二級(jí)反滲透可去除高達(dá)95％ 以上的各種離子和有機(jī)物。
5.中間水箱：儲(chǔ)存二級(jí)反滲透產(chǎn)水，充普通氮?dú)?，隔絕空氣，以保護(hù)水質(zhì)不受污染。
6.去有機(jī)物紫外線： 波長(zhǎng)1 85mm 的紫外線燈可分解有機(jī)物至二氧化碳和水。
7.混床：不同于離子交換塔中陰陽(yáng)離子樹脂，混床中使用的樹脂可以在較低的離子濃度下獲得很好的脫除效率，混床出水電阻率已達(dá)1 7M Q．cm以上，接近超純水電阻率要求。
8.0.45um過濾器：去除去離子水中的顆粒雜質(zhì)，并捕捉水中可能帶出的破碎的混床樹脂微粒，以保護(hù)膜脫氣裝置的脫氣膜不受損害。
9.膜脫氣裝置：加真空氮?dú)獯祾叩哪っ摎庋b置可保證產(chǎn)水中溶氧達(dá)到小于lppb的要求，與早期的真空氮?dú)獯祾叩奶盍纤啾?，具有脫氣率高，占空間小，節(jié)省氮?dú)獾膬?yōu)點(diǎn)。

超純水設(shè)備在設(shè)計(jì)上采用成熟、可靠、的制水工藝，將雙級(jí)反滲透、EDI和混床除鹽相結(jié)合，保證經(jīng)過設(shè)備處理后的水質(zhì)電阻率得到18兆歐以上。超純水設(shè)備采用PLC觸摸屏控制，自動(dòng)化程度、穩(wěn)定性能高，與同類設(shè)備相比，具有更高的性價(jià)比和可靠性。
二、超純水設(shè)備功用
(1)砂濾器，功用：初步去除水中泥沙、雜質(zhì)、懸浮物以及其它微粒等降低水的濁度。
(2)碳濾器，功用：利用碳的吸附原理吸附水中異色、異味、余氯等。
(3)軟水器，功用：置換水中鈣鎂離子，降低水的硬度。
(4)反滲透主機(jī)，功用：主要是通過反滲透過濾，達(dá)到生產(chǎn)純水之目的。
(5)EDI系統(tǒng)(EDI系統(tǒng)優(yōu)勢(shì))，功用：EDI系統(tǒng)又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，通過陽(yáng)陰離子膜對(duì)陽(yáng)陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對(duì)水中離子的交換作用，在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生。
(6)核能混床，功用：進(jìn)一步提升水質(zhì)，保證出水符合標(biāo)準(zhǔn)。
三、超純水設(shè)備設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)
(1)系統(tǒng)采用水處理技術(shù)雙級(jí)RO+EDI+混床模塊化設(shè)計(jì)，嚴(yán)格按設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)，確保水質(zhì)穩(wěn)定，長(zhǎng)效運(yùn)行。
(2)通過技術(shù)設(shè)計(jì)，確保系統(tǒng)短時(shí)停機(jī)及長(zhǎng)時(shí)間停機(jī)時(shí)水質(zhì)保持穩(wěn)定。
(3)通過技術(shù)保證終端出水恒壓、水質(zhì)穩(wěn)定。
(4)通過完善的技術(shù)，限度的提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行成本。
(5)采用ESPA2壓膜，運(yùn)行穩(wěn)定，能耗低。
(6)采用PH調(diào)節(jié)系統(tǒng)以確保水溫下降或原水PH值偏低時(shí)EDI出水水質(zhì)。
(7)配備的有化學(xué)清洗系統(tǒng)，可定期對(duì)反滲透進(jìn)行化學(xué)清洗，以確保系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行。
(8)配備濃水置換技術(shù)，防止膜系統(tǒng)受到微生物污染。
(9)EDI及后段出水采用超純水管道，限度的保證出水水質(zhì)。
(10)EDI水箱采用氮封裝置，以確保終端水質(zhì)穩(wěn)定及延長(zhǎng)核能混床壽命。
(11)采用PLC加觸摸屏控制系統(tǒng)，并采用進(jìn)口電氣原件，操作方便，運(yùn)行穩(wěn)定。
(12)主題材料全部采用行業(yè)內(nèi)國(guó)際，保質(zhì)保量，并按配置設(shè)計(jì)。
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