貴州EDI超純水系統(tǒng)，純水處理設(shè)備系統(tǒng)
受成本、環(huán)境和質(zhì)量因素的影響， 超純水的生產(chǎn)工藝在近的幾十年內(nèi)經(jīng)歷了很多變化。一個(gè)趨勢(shì)特別明顯，即減少對(duì)離子交換(IX)的依賴程度，其目的在于將化學(xué)使用減少到，并提高水的利用率。
反滲透(RO)技術(shù)能將水中95%-98%的離子去除，從而減少了酸堿的用量，但還不能完全不使用化學(xué)。為了制備超純水，通常采用反滲透+混床工藝。混床離子交換技術(shù)一直作為超純水制備的標(biāo)準(zhǔn)工藝。由于其需要周期性的再生，在再生過(guò)程中使用相應(yīng)的化學(xué)(酸堿)，已無(wú)法滿足現(xiàn)代工業(yè)清潔生產(chǎn)和環(huán)保的需要。于是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)有機(jī)結(jié)合形成的EDI技術(shù)成為水處理技術(shù)的一場(chǎng)革命。
電去離子(Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI)是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來(lái)的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過(guò)程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹(shù)脂進(jìn)行電化學(xué)再生。
EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹(shù)脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹(shù)脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹(shù)脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換，離子交換樹(shù)脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹(shù)脂通過(guò)水的電解連續(xù)再生，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學(xué)再生。
應(yīng)用領(lǐng)域
EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)、操作簡(jiǎn)便、無(wú)污染，是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。

反滲透設(shè)備是目前水處理行業(yè)中技術(shù)、應(yīng)用為可靠的除鹽設(shè)備。反滲透設(shè)備的工作原理是對(duì)需要處理的原水溶液施加一個(gè)大于滲透壓的壓力，使水透過(guò)特制的半透膜，從溶液中分離出來(lái)，水分子透過(guò)反滲透膜成為純水，水中的雜質(zhì)被反滲透膜截留并被濃水帶出。因?yàn)檫@個(gè)過(guò)程和滲透現(xiàn)象相反，所以稱為反滲透。按各種物料的不同滲透壓，就可以對(duì)某種溶液使用大于滲透壓的反滲透方法，達(dá)到對(duì)溶液進(jìn)行分離、提取、純化和濃縮的目的，它能去除濾液中的離子范圍和分子量很小的有機(jī)物，如、、熱源等。
反滲透設(shè)備特點(diǎn)
1、脫鹽率高達(dá)97%以上，水回收率高達(dá)75%。
2、運(yùn)行費(fèi)用低，故障率低。
3、具有連續(xù)制水功能。
4、反滲透設(shè)備通過(guò)PLC程序可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)運(yùn)行。
5、反滲透設(shè)備操作簡(jiǎn)單、運(yùn)行平穩(wěn)、能耗低、無(wú)污染、使用壽命長(zhǎng)。
反滲透設(shè)備清洗方法
1、低壓沖洗反滲透設(shè)備
定期對(duì)反滲透設(shè)備進(jìn)行大、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透設(shè)備進(jìn)水SDI突然升高超過(guò)5.5以上時(shí)，應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開(kāi)機(jī)。
2、反滲透設(shè)備停運(yùn)保護(hù)
由于生產(chǎn)的波動(dòng)，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，短期或長(zhǎng)期停用時(shí)必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。
短期保存適用于停運(yùn)15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來(lái)保護(hù)反滲透設(shè)備。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時(shí)，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì)，有大量繁殖。因此，建議水溫高于20℃時(shí)，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時(shí)，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門(mén)。
長(zhǎng)期停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時(shí)必須用保護(hù)液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為10(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。
3、反滲透膜化學(xué)清洗
在正常運(yùn)行條件下，反滲透膜也可能被無(wú)機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對(duì)膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。
一般3～12個(gè)月清洗一次，如果每個(gè)月不得不清洗一次，這說(shuō)明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運(yùn)行參數(shù)。如果1～3個(gè)月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平，是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。

貴州水處理設(shè)備，超純水機(jī)的工藝配置與保養(yǎng)
精密濾芯、活性炭濾芯、反滲透膜、純化柱都是具有相對(duì)壽命的材料，精密濾芯和活性炭濾芯實(shí)際上是對(duì)反滲透膜的保護(hù)，如果它們失效，那么反滲透膜的負(fù)荷就加重，壽命減短，如果繼續(xù)開(kāi)機(jī)的話，那產(chǎn)生的純水水質(zhì)就下降，隨之就加重了純化柱的負(fù)擔(dān)，則純化柱的壽命就會(huì)縮短。終結(jié)果是加大了超純水機(jī)的使用成本。所以，在實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)的使用中，有以下方面的事情需要注意。
工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(新工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(新工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
保養(yǎng)
首先簡(jiǎn)單認(rèn)識(shí)一下超純水機(jī)，自來(lái)水經(jīng)過(guò)精密濾芯和活性炭濾芯進(jìn)行預(yù)處理，過(guò)濾泥沙等顆粒物和吸附異味等，讓自來(lái)水變得更加干凈，然后再通過(guò)反滲透裝置進(jìn)行水質(zhì)純化脫鹽，純化水進(jìn)入儲(chǔ)水箱儲(chǔ)存起來(lái)，其水質(zhì)可以達(dá)到國(guó)家水標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)反滲透裝置產(chǎn)水的廢水(亦稱“濃水”)排掉。反滲透純水通過(guò)純化柱進(jìn)行深度脫鹽處理就得到一級(jí)水或者超純水，后如果用戶有要求，則在超純水后面加上紫外殺菌或者微濾、超濾等裝置，除去水中余的、微粒、熱源等。

1.電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 
光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學(xué)試劑 
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點(diǎn)： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護(hù)簡(jiǎn)易
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