產(chǎn)品介紹
反滲透純水設備用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設備采用雙級反滲透技術(shù)與純化、殺菌技術(shù)相結(jié)合，出水水質(zhì)達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。
工藝設計
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設備特點
1.采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉。
2.無需酸堿處理，環(huán)保無“三廢”。
3.自動控制，自動維護，水質(zhì)在線檢測，隨時監(jiān)測水質(zhì)變化。
4.切合當?shù)厮|(zhì)的個性化設計，滿足需求。
5.全自動控制系統(tǒng)，日常操作極為簡便，系統(tǒng)自動進行沖洗維護，制取產(chǎn)品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設計，不但可以制造超純水，還生產(chǎn)純水，方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
7.預留了升級空間?？梢愿鶕?jù)用戶需要輕松實現(xiàn)功能升級。
技術(shù)參數(shù)
電子級超純水設備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。

反滲透設備
RO反滲透原理及技術(shù)特點:
反滲透裝置是脫除水中鹽分和各種雜質(zhì)藉膜分離進行水處理的設備。它可以有效地除去原水中溶解的離子，除去有機物大分子以及、等有害污染物。
RO反滲透裝置采用美國進口膜元件，壓力容器及測量儀表等主要部件組裝，有較好的質(zhì)量價格比，也可根據(jù)用戶需要從美國進口原裝設備。
RO反滲透裝置的特點:
◆由美國進口膜元件組裝，單臺產(chǎn)水量0.5—200m3/h，多種反滲透產(chǎn)品系列供選用
◆采用耐腐蝕性能好的不銹鋼高壓泵，可選用國產(chǎn)的或國外進口
◆配有美國進口的在線產(chǎn)品水、濃水計，可選用濃水回表
◆可選用在線產(chǎn)品水電導率儀、PH計、自動沖洗、液位自動控制、高壓泵壓力自動控制
◆可選用PLC程序控制自動起停、加藥及沖洗
◆可配置有清洗系統(tǒng)，以備膜污染后清洗之用
◆采用不銹鋼精密過濾，配以聚丙烯濾芯
◆采用耐腐蝕噴涂鋼架或不銹鋼架
RO反滲透裝置適用領(lǐng)域:
苦咸水淡化：高氟地區(qū)飲用水；
高硬水硬度去除；發(fā)電廠、電子、制藥、金屬加工用線純水；
食品、飲料、罐裝純凈水用水；、實驗室用水。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

貴州純凈水設備，安裝純凈水設備時的注意事項
1、注意服務，與用戶進行謙虛，善良，有效的溝通。
2、安裝人員自帶鞋套，手套和抹布。
3、安裝位置的選擇一方面便于安裝，又易于維修和保養(yǎng)，因人而異從家庭庭，根據(jù)實際情況、提出我們的計劃，并尊重用戶的想法。
4、無論是放置在位置，還是綁住水管，我們必須注意外觀和實用性。
5、如果你需要穿墻，或在臺面，櫥柜等處打孔，要注意保持其完整性，合理美觀。如果情況無法控制，應首先告知用戶可能的后果，合理和損。
6、安裝機器時，首先清潔機器的空間，安裝機器時周圍環(huán)境不得變臟。
7、首先打開水源，然后在機器裝滿后打開電源。
8、安裝完成后，應告知用戶使用方法和注意事項，并告知用戶可能發(fā)生的異常情況，并提出緊急處理。
9、安裝完成后，仔細檢查和調(diào)試，并注冊基本條件，以確保一切正常后離開現(xiàn)場。
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