水處理設(shè)備、純水設(shè)備、超純水設(shè)備、EDI高純水設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室超純水成套設(shè)備、家用純水機(jī)、鍋爐補(bǔ)給水軟化水設(shè)備、反滲透，RO反滲透等水處理設(shè)備；質(zhì)量保證！
超純水設(shè)備主要用途：
　超純水設(shè)備主要用于微電子產(chǎn)品生產(chǎn)用高純水，半導(dǎo)體、顯象管制造業(yè)用超純水，集成電路板生產(chǎn)清洗用超純水，蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產(chǎn)用純水，高純水，超純水的制備。
超純水設(shè)備概述：
    超純水設(shè)備主要在半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
超純水設(shè)備特點(diǎn)：
   超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

產(chǎn)品介紹
反滲透純水設(shè)備用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。都應(yīng)該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設(shè)備采用雙級反滲透技術(shù)與純化、殺菌技術(shù)相結(jié)合，出水水質(zhì)達(dá)到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標(biāo)準(zhǔn)。
工藝設(shè)計(jì)
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設(shè)備特點(diǎn)
1.采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運(yùn)行成本低廉。
2.無需酸堿處理，環(huán)保無“三廢”。
3.自動控制，自動維護(hù)，水質(zhì)在線檢測，隨時(shí)監(jiān)測水質(zhì)變化。
4.切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，滿足需求。
5.全自動控制系統(tǒng)，日常操作極為簡便，系統(tǒng)自動進(jìn)行沖洗維護(hù)，制取產(chǎn)品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設(shè)計(jì)，不但可以制造超純水，還生產(chǎn)純水，方便用戶實(shí)驗(yàn)室的不同級別用水要求。
7.預(yù)留了升級空間?？梢愿鶕?jù)用戶需要輕松實(shí)現(xiàn)功能升級。
技術(shù)參數(shù)
電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

1.電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)
3.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 
光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學(xué)試劑 
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點(diǎn)： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護(hù)簡易

工業(yè)純水設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行及使用壽命，與日常的運(yùn)行管理息息相關(guān)，正確操作需注意以下事項(xiàng)。
1、反滲透膜的水解易造成反滲透裝置的性能惡化，因此要嚴(yán)格控制水的PH值，給水PH值在3-11范圍內(nèi)。
2、如果給水的FI值超標(biāo)，膜組件的表面會附著污垢，出現(xiàn)這種現(xiàn)象須進(jìn)行清洗。
3、因注入的次氯酸鈉量不足，造成給水中的游離氯不能測出時(shí)，工業(yè)純水設(shè)備的膜組件會有黏泥，使壓差增加，所以要嚴(yán)格控制進(jìn)入膜組件的游離氯量，制止超過規(guī)定值導(dǎo)致膜氧化分解。
4、給水不能超過設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)值，否則會造成膜組件提前劣化。另外，濃水的不得小于設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)值，否則會使工業(yè)純水設(shè)備的壓力容器流動不均勻，由過分濃縮使膜組件析出污垢。
5、高壓泵不可中斷運(yùn)轉(zhuǎn)，否則裝置容易故障。
工業(yè)純水設(shè)備
6、夏天給水溫度高，產(chǎn)水就多，減低操作壓力的話，會導(dǎo)致產(chǎn)水水質(zhì)下降。因此，建議操作壓力保持，減少膜組件的數(shù)量便可。
7、冬季水溫下降，為了制止反滲透裝置停運(yùn)時(shí)析出二氧化硅，應(yīng)用低壓給水置換反滲透裝置內(nèi)的水。
8、如果沒有適當(dāng)?shù)膲簩?shí)，會減低工業(yè)純水設(shè)備除鹽率，因此壓力要保持適當(dāng)?shù)脑６取?br/>9、保安過濾器壓差加快上升，是因?yàn)闇啙岫鹊男孤?；出現(xiàn)壓差加快下降的現(xiàn)象，是元件緊固螺絲松動，或是精密過濾器元件破損等原因造成的。
10、如果工業(yè)純水設(shè)備和出口的壓差超標(biāo)，說明給水在設(shè)計(jì)值以上，或者是膜面受到污染。重新調(diào)整，或者更換膜元件便可。
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