反滲透純水設備
詳情說明
產(chǎn)品參數(shù)：
型號：定制
產(chǎn)水量：0.25~200T/H(根據(jù)客戶需求而定)
進水水質(zhì)：自來水、井水、地下水、中水（達標排放廢水）
純水水質(zhì)：符合客戶要求的純水水質(zhì)
電導率范圍：0.1μs/cm--10μs/cm
電阻率范圍：0.5MΩ.cm--18.2MΩ·cm
控制：全自動控制/手自一體化自動切換
反滲透純水設備簡介：
純水設備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置，根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標準。純水設備系統(tǒng)采用反滲透水處理工藝，包含：原水泵、多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、軟水器、過濾器、反滲透主機、紫外殺菌器/臭氧殺菌器、純水箱等。
反滲透純水設備特點：
1.根據(jù)項目原水特征，結合已有的經(jīng)驗，在確保出水達標的前提下，采用成熟、可靠工藝；
2.系統(tǒng)運行要求低能耗、低費用；
3.系統(tǒng)設備采用實現(xiàn)標準化、模塊化和系統(tǒng)化的設計方式，以便快速安裝和以后系統(tǒng)維護；
4.設備選型經(jīng)濟合理、節(jié)能，較大可能地減少維修費用為原則；
5.自動化控制設備以及主要檢測儀器；
6.方案設計合理、運行穩(wěn)定、產(chǎn)水的品質(zhì)滿足設計要求，并已在多項類似工程中得到應用及檢驗。
反滲透純水設備應用范圍：
1.化妝品行業(yè):
護膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。
2.食品、飲料、純凈水行業(yè)：
食品生產(chǎn)用水和飲料生產(chǎn)用水以及純凈水的生產(chǎn)
3.電子工業(yè)：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業(yè)：
蓄電池生產(chǎn)用純水、鋰電池生產(chǎn)用純水、太陽能電池生產(chǎn)用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業(yè)：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業(yè)：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。

食堂用純凈水設備，貴州水處理設備
反滲透又稱逆滲透，一種以壓力差為推動力，從溶液中分離出溶劑的膜分離操作。對膜一側的料液施加壓力，當壓力超過它的滲透壓時，溶劑會逆著自然滲透的方向作反向滲透。從而在膜的低壓側得到透過的溶劑，即滲透液；高壓側得到濃縮的溶液，即濃縮液。若用反滲透處理海水，在膜的低壓側得到淡水，在高壓側得到鹵水。
反滲透時，溶劑的滲透速率即液流能量N為：
N=Kh(Δp－Δπ)
式中Kh為水力滲透系數(shù)，它隨溫度升高稍有；Δp為膜兩側的靜壓差；Δπ為膜兩側溶液的滲透壓差。稀溶液的滲透壓π為：
π=iCRT
式中i為溶質(zhì)分子電離生成的離子數(shù)；C為溶質(zhì)的摩爾濃度；R為摩爾氣體常數(shù)；T為溫度。
反滲透通常使用非對稱膜和復合膜。反滲透所用的設備，主要是中空纖維式或卷式的膜分離設備。
反滲透膜能截留水中的各種無機離子、膠體物質(zhì)和大分子溶質(zhì)，從而取得凈制的水。也可用于大分子有機物溶液的預濃縮。由于反滲透過程簡單，能耗低，近20年來得到迅速發(fā)展?，F(xiàn)已大規(guī)模應用于海水和苦咸水（見鹵水）淡化、鍋爐用水軟化和廢水處理，并與離子交換結合制取高純水，目前其應用范圍正在擴大，已開始用于乳品、果汁的濃縮以及生化和生物制劑的分離和濃縮方面。

一、設計原理：
1．原 水：深井水或市政自來水。
2. 原水水質(zhì)報告：見原水檢驗報告書。
3. 系統(tǒng)設計進水參數(shù)：
水壓≥3.0kg    管路直徑為：≥DN50     水通量 ：≥18噸/小時
4、系統(tǒng)產(chǎn)水參數(shù)：
一級RO出水水量≥9噸/小時　       二級 RO出水水量≥6 噸/小時
5、出水水質(zhì)：
反滲透設備出水電導率≤10μS/cm，出水符合瓶（桶）裝飲用純凈水衛(wèi)生標準
GB/T17324-2003
6．系統(tǒng)配置： 預處理系統(tǒng)→雙級反滲透系統(tǒng)→臭氧殺菌系統(tǒng)→灌裝線系統(tǒng)
7．運行方式：全自動控制運行。
8．設計界線：從原水箱出口至灌裝線。
9．其他涉及的設計基礎條件將在技術討論中確定。
10.地基要求：地基承載力≥5噸/平方。
11.廢水處理：排至設備就近下水管道/地溝（用戶考慮）。
12.系統(tǒng)要求水溫：5—25度。
13.設備周圍環(huán)境要求溫度：5—40度。
14．設備占地面積：100—200平方米。
15．設備現(xiàn)場排水預埋地漏、地溝；原水進水管道及閥門；設備所需總配電柜；屋內(nèi)照               明等由設備供應方設計，設備需求方按要求做到位。
16、設備所有室內(nèi)地面需做自流地坪，墻面：灌裝間、風淋室及更衣室按國家水廠無菌室制作要求來做，其余室內(nèi)墻面只需貼瓷磚。
二、系統(tǒng)工藝流程：
原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→阻垢劑添加系統(tǒng)→5微米精密過濾器  → 一級反滲透系統(tǒng)→中間水箱→二級反滲透系統(tǒng)→臭氧殺菌系統(tǒng)→純水箱→純水供水泵→灌裝線
三、主要工藝流程設備的說明：
1、 預處理部分：
預處理就是通過過濾、吸附、交換等方法使反滲透進水達到以下要求，實現(xiàn)以下目的：
（1）防止反滲透膜面結垢（包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、鐵鋁氧化物等）；（2）防止膠體物質(zhì)及懸浮固體微粒對反滲透膜的污堵；
（3）防止有機物質(zhì)的對反滲透膜的污堵和降解；
（4） 防止微生物對反滲透膜的污堵；
（5）防止氧化性物質(zhì)對反滲透膜的氧化破壞；
2、預處理系統(tǒng)的組成及設計原因：
（1）設計組成:原水中含有多種雜質(zhì)，如懸浮物、膠體、有機物和無機物。為去除水中的懸浮物、膠體、有機物等，原水預處理部分設置有：多介質(zhì)過濾器（主要濾料有粒徑不同大小的凈水石英砂組成）、活性炭、樹脂軟化罐、5微米保安濾器等裝置。
（2）設計原因：預處理系統(tǒng)是根據(jù)原水水質(zhì)報告數(shù)據(jù)分析，結合公司多年實際經(jīng)驗，在保證設備運行中：科學、安全可靠的前提下得出的結論。反滲透進水水質(zhì)要求污染指數(shù)（SDI）≤4，濁度＜1NTU，余氯＜0.1mg/L，含量TBC＜10個/mL。水質(zhì)的好壞直接影響反滲透水處理設備的可靠性與安全性。
3、預處理分項功能說明：
（1） 原水箱、原水泵：
反滲透系統(tǒng)要求進水合格、壓力穩(wěn)定，屬于分批式供水。原水箱、原水泵用來提供足夠的進水和壓力及保證系統(tǒng)的運行穩(wěn)定。
（說明：原水泵≧18噸/小時、壓力≧3kg，兩個參數(shù)必須同時滿足）。
（2）多介質(zhì)過濾器主要功能：
其主要作用是去除粒度大于20微米的機械雜質(zhì)、經(jīng)過混凝的小分子有機物和部分膠體，使出水濁度小于0.5NTU，含鐵量小于0.05mg/L,  SDI≤5.
此系統(tǒng)設有全自動過濾閥頭、廠商為美國Fleck，能根據(jù)原水水質(zhì)條件來設定：
正洗和反洗的周期時間；能夠徹底的把原水中顆粒性物質(zhì)及泥沙下來、再
定期反沖洗把每天運行時所截留的淤泥、懸浮物等雜質(zhì)排除罐外，重新恢復濾料的
功能及延長其使用壽命；有效的保證下道工序進水要求。
（3）活性炭的主要功能 ：
反滲透設備要求進水的余氯含量小于0.1mg/l，因此采用活性炭濾器脫除原水中的余氯，防止反滲透膜受到污染。同時可以進一步吸附原水中的有機物?；钚蕴繛V器內(nèi)填精制耶殼型活性炭，用于吸附原水中的余氯、有機物、部分色素和有害物質(zhì)，降低化學耗氧量COD?；钚蕴勘粡V泛應用于生活用水及食品工業(yè)、化工等工業(yè)用水的凈化，由于活性炭的比表面積很大，其表面又布滿了平均為20—30埃的微孔，因此，活性炭具有很高的吸附能力。此外，活性炭的表面有大量的羥基和羧基等官能團，可以對各種性質(zhì)的有機物質(zhì)進行化學吸附，以及靜電引力作用，因此，活性炭還能去除水中腐殖酸、富維酸、木質(zhì)磺酸等有機物質(zhì)，還可去除象余氯一類對反滲透膜有害的物質(zhì)，防止反滲透膜被氧化。通常能夠去除63%—86%膠體物質(zhì)，50%左右的鐵，以及47—60%的有機物質(zhì)。 活性炭脫出余氯的過程是一個簡單的氧化還原過程。此過程有可能使活性炭破碎，但破碎的活性炭并不影響脫出余氯的效果，因此活性炭脫出余氯的效果非常強。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。
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