加工定制是
外形尺寸定制
水質(zhì)超純水
生產(chǎn)技術(shù)貴州鑫灃源環(huán)保
尺寸定制
機架304
質(zhì)保1年免費,終身維護
管道CPVC/UPVC
材質(zhì)304/UPVC
組裝模塊化
產(chǎn)水電阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃
安裝調(diào)試包含
組合模塊化
是否自動全自動
產(chǎn)水量0.25噸/小時至1000噸/小時
進水水質(zhì)市政自來水或者井水
出水水質(zhì)符合客戶要求的純水水質(zhì)
電導率范圍0.055μS/cm~10μS/cm
電阻率范圍1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
生產(chǎn)地貴州貴陽
水質(zhì):出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
半導體(semiconductor),指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備,我們公司生產(chǎn)反滲透+EDI超純水設(shè)備,有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗,做過各行業(yè)的水處理設(shè)備,水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導體超純水設(shè)備制備工藝:
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準:
半導體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備的應用領(lǐng)域:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗; 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;
半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;
顯像管、螢光粉生產(chǎn);
汽車、家電表面拋光處理。

1、供方保證提品符合《*共國產(chǎn)品質(zhì)量法》及相關(guān)技術(shù)標準、規(guī)范要求。
2、所供設(shè)備一年免費保修服務,在保修期內(nèi),凡因我公司設(shè)計、安裝、制造、設(shè)備、材料、安裝、調(diào)試
等原因造成的設(shè)備損壞或是故障,均由我方予以免費維修或更換。
3、三年免費保修服務及技術(shù)支持,一年內(nèi)維修將不收取任何費用,并提供的售后服務支持。
4、實行“安全無憂”保修計劃,一年內(nèi)如有備件需要維修,無償提供服務,保證客戶正常使用設(shè)備。
5、售后服務工作制,對于客戶要求,保證在8小時以內(nèi)予以解決,如有必要。保證在8小時內(nèi)趕到用戶服務員現(xiàn)場予以服務。
6、在安裝調(diào)試過程中,貴公司需派人員跟隨我方安裝人員了解設(shè)備的性能及相關(guān)操作方式。
7、定期主動追蹤設(shè)備運行記錄,系統(tǒng)運行狀況,以便及時發(fā)現(xiàn)問題,保證系統(tǒng)長時期安全、穩(wěn)定運行。
8、以下原因造成的損壞不在保修范圍內(nèi):不定期更換清洗耗才;不按說明書操作;超負荷工作;非質(zhì)量問題的損壞(人為、外力、自然因素等);私自拆卸改裝設(shè)備等原因不在保修范圍內(nèi)。

食堂用純凈水設(shè)備,貴州水處理設(shè)備
反滲透又稱逆滲透,一種以壓力差為推動力,從溶液中分離出溶劑的膜分離操作。對膜一側(cè)的料液施加壓力,當壓力超過它的滲透壓時,溶劑會逆著自然滲透的方向作反向滲透。從而在膜的低壓側(cè)得到透過的溶劑,即滲透液;高壓側(cè)得到濃縮的溶液,即濃縮液。若用反滲透處理海水,在膜的低壓側(cè)得到淡水,在高壓側(cè)得到鹵水。
反滲透時,溶劑的滲透速率即液流能量N為:
N=Kh(Δp-Δπ)
式中Kh為水力滲透系數(shù),它隨溫度升高稍有;Δp為膜兩側(cè)的靜壓差;Δπ為膜兩側(cè)溶液的滲透壓差。稀溶液的滲透壓π為:
π=iCRT
式中i為溶質(zhì)分子電離生成的離子數(shù);C為溶質(zhì)的摩爾濃度;R為摩爾氣體常數(shù);T為溫度。
反滲透通常使用非對稱膜和復合膜。反滲透所用的設(shè)備,主要是中空纖維式或卷式的膜分離設(shè)備。
反滲透膜能截留水中的各種無機離子、膠體物質(zhì)和大分子溶質(zhì),從而取得凈制的水。也可用于大分子有機物溶液的預濃縮。由于反滲透過程簡單,能耗低,近20年來得到迅速發(fā)展。現(xiàn)已大規(guī)模應用于海水和苦咸水(見鹵水)淡化、鍋爐用水軟化和廢水處理,并與離子交換結(jié)合制取高純水,目前其應用范圍正在擴大,已開始用于乳品、果汁的濃縮以及生化和生物制劑的分離和濃縮方面。

產(chǎn)品介紹
反滲透純水設(shè)備用于新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術(shù)相結(jié)合制取的純水,這樣才能提高純水的純度,符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設(shè)備采用雙級反滲透技術(shù)與純化、殺菌技術(shù)相結(jié)合,出水水質(zhì)達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。
工藝設(shè)計
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設(shè)備特點
1.采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉。
2.無需酸堿處理,環(huán)保無“三廢”。
3.自動控制,自動維護,水質(zhì)在線檢測,隨時監(jiān)測水質(zhì)變化。
4.切合當?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計,滿足需求。
5.全自動控制系統(tǒng),日常操作極為簡便,系統(tǒng)自動進行沖洗維護,制取產(chǎn)品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設(shè)計,不但可以制造超純水,還生產(chǎn)純水,方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
7.預留了升級空間。可以根據(jù)用戶需要輕松實現(xiàn)功能升級。
技術(shù)參數(shù)
電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
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