我公司生產(chǎn)的，采用世界上的反滲透膜元件作預(yù)處理再配上EDI連續(xù)電除鹽裝置這是目前制取超純水經(jīng)濟，環(huán)保的超純水制備工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴.
我公司設(shè)計的EDI除鹽設(shè)備系統(tǒng)采用成熟、可靠、、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩNaN。EDI除鹽設(shè)備系統(tǒng)關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國際主流可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
我們公司生產(chǎn)EDI除鹽設(shè)備系統(tǒng)，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，尤其在電控系統(tǒng)PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過很多各行業(yè)的水處理設(shè)備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗。我們公司做出來的EDI除鹽設(shè)備系統(tǒng)質(zhì)量比同行具有更大的優(yōu)勢，在國內(nèi)具有一定的市場竟爭力。該產(chǎn)品由于具備性能好、價格低于國外同類產(chǎn)品價格、供貨及時、售后服務(wù)方便快捷等諸多優(yōu)勢。在太陽能光伏電池、單/多晶硅、非晶硅、電子與半導(dǎo)體、鍋爐補給水、光電光學(xué)等企業(yè)的脫鹽水和超純水裝置，得到了業(yè)界的廣泛贊譽，歡迎廣大客戶前來參觀考察我公司的廠房及EDI超純水設(shè)備工程案例。

超純水設(shè)備顧名思義主要應(yīng)用在墨水生產(chǎn)中，為了保證墨水的純度，提高墨水質(zhì)量，需要使用電阻率在16兆歐以上的水進行配置，而超純水設(shè)備采用的反滲透和EDI技術(shù)，設(shè)備的出水電阻率達到18兆歐以上，完全滿足水。
超純水設(shè)備
超純水設(shè)備
二、超純水設(shè)備典型工藝流程
1、預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點
2、預(yù)處理-一級反滲透-二級反滲透(正電荷反滲透膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
3、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
4、預(yù)處理-紫外線殺菌裝置-一級RO裝置-二級RO裝置-中間水箱-EDI裝置-脫氧裝置-氮封純水箱-除TOCUV裝置-拋光混床-超濾裝置-用水點
超純水設(shè)備圖片
超純水設(shè)備圖片
三、超純水設(shè)備特點
數(shù)字化液晶水質(zhì)顯示，全自動化制水，停水或水壓不夠，系統(tǒng)自動斷電保護同時視聽報警，多重安全保護。
微電腦智能控制系統(tǒng)，RO膜防垢程序及完善的自動清洗消毒程序。
全自動化無人值守設(shè)計：缺水停水時系統(tǒng)自動停機保護，水壓恢復(fù)正常時系統(tǒng)自動恢復(fù)制水狀態(tài);純水備用時系統(tǒng)自動停機，當取用一定純水時系統(tǒng)自動恢復(fù)制水狀態(tài)。
化指示：電源指示，系統(tǒng)自檢指示，泵浦啟動指示，RO自動沖洗指示，缺水保護指示，缺水報警指示，純水備用指示。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

礦泉水設(shè)備使用范圍
1.用于 RO 系統(tǒng)的前置處理：可以把源水中的濁度降到 1NTU 以下，完全去除水中的懸浮物、膠體、有機物和類物質(zhì)，保證 RO 膜的穩(wěn)定的產(chǎn)水量和脫鹽率。
2.作為礦泉水設(shè)備、山泉水設(shè)備的主機部分：可以有效濾除礦泉水設(shè)備中的懸浮物、有機物、和大腸等有害物質(zhì)，使礦泉水的透明度明顯提高，而且保留了礦泉水中的對人體健康有益的各種礦物質(zhì)。
3.家庭、單位和生活小區(qū)集團飲用凈水：對自來水進行二次處理，不僅去除了水中大量的懸浮物、膠體和微粒，使自來水變得干凈、清沏透明，而且也除去了有機物、和大腸等致病的物質(zhì)，使自來水變成干凈衛(wèi)生的直飲水。
工藝流程
原水箱→反洗增壓泵→機械過濾器→活性碳過濾器→1μm精濾→超濾→臭氧→凈水箱
設(shè)備用途
◎飲料、飲用水的制備
◎礦泉水的澄清除菌
◎生活用水的處理
◎醫(yī)藥各級用水的處理
◎大型水處理設(shè)備的前處理
◎電子行業(yè)超純水的終端處理
◎工業(yè)廢水處理及有用物質(zhì)的回收
技術(shù)參數(shù)：
◎型號：LTLD
◎產(chǎn)水量：6-10噸/小時（可根據(jù)用戶要求而定）
◎截流分子量：1000－1000000MW
◎工作溫度：≤45℃
◎工作壓力：0.2－0.3Mpa
特點：
臭氧發(fā)生器：
采用國外技術(shù)，國內(nèi)產(chǎn)品。
單元產(chǎn)量高，能耗低。
運行可靠，整體組合裝配。
臭氧膜氧化塔：
采用進口填料，塔高降低1/3。
臭氧利用率和氧化效果優(yōu)于高塔。
精濾器：
介質(zhì)采用聚膜，抗氧化、耐腐蝕、抗生化、性使用。
體積小，過濾面積大。
可以過濾高價離子，避免水中出現(xiàn)沉淀。
組合式礦泉水水處理設(shè)備：
占地面積減少2/3。
完成了出廠前的所有水處理管件配置。
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