純凈水設(shè)備采用的是反滲透技術(shù)，以壓力作為推動(dòng)力去除水中的有機(jī)物、膠體、等雜質(zhì)，在加上一定的預(yù)處理過(guò)程達(dá)到凈水效果。預(yù)處理過(guò)程能夠有效的去除水中的大顆粒等雜質(zhì)，不但提高了設(shè)備的出水水質(zhì)，還有效的保護(hù)了后面的反滲透膜，延長(zhǎng)了使用的壽命。本文將介紹下純凈水設(shè)備的相關(guān)知識(shí)。
純凈水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
電阻率：≥0.5MΩ.CM
電導(dǎo)率：≤2μS
氨：≤0.3μg/
硝酸鹽：≤0.06μg/
重金屬：≤0.5μg/
純凈水設(shè)備
純凈水設(shè)備
純凈水設(shè)備主要組成
純凈水設(shè)備主要組成一般包括預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。
預(yù)處理系統(tǒng)一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體情況而定。
純凈水設(shè)備反滲透裝置主要包括多級(jí)高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿(mǎn)足使用要求。
后處理系統(tǒng)是在反滲透不能滿(mǎn)足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽(yáng)床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設(shè)備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質(zhì)更好的提高，使之滿(mǎn)足使用要求。
純凈水設(shè)備清洗系統(tǒng)主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過(guò)濾器組成。當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿(mǎn)足要求時(shí)，需要對(duì)反滲透進(jìn)行清洗使之恢復(fù)。
電氣控制系統(tǒng)是用來(lái)控制整個(gè)反滲透系統(tǒng)正常運(yùn)行的。包括儀表盤(pán)、控制盤(pán)、各種電器保護(hù)、電氣控制柜等。
純凈水設(shè)備圖片
純凈水設(shè)備圖片
純凈水設(shè)備特點(diǎn)
1、純凈水設(shè)備設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單。電除鹽的模塊設(shè)計(jì)很容易把它的做到500噸/小時(shí)甚至更高。實(shí)用的設(shè)計(jì)對(duì)于電除鹽系統(tǒng)，不管是維修還是增減設(shè)備的容量都是很容易的，必須要更換膜堆時(shí)，在現(xiàn)場(chǎng)只要花極少的停機(jī)時(shí)間就可以完成。
2、可連續(xù)生產(chǎn)，免除了使用混床過(guò)程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。
3、水質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)有普通混床那樣的水質(zhì)變化。
4、運(yùn)行成本低，電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，運(yùn)營(yíng)成本低在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。
5、安裝維修簡(jiǎn)便，電除鹽裝置允許通過(guò)對(duì)其它膜堆的重新分配而達(dá)到對(duì)某一個(gè)膜堆維修的要求，不改變系統(tǒng)的性能。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類(lèi)。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線(xiàn)路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過(guò)各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車(chē)、家電表面拋光處理。

一、工藝流程特點(diǎn)
1、本制水系統(tǒng)分預(yù)處理、一級(jí)反滲透、精處理二部分組成。預(yù)處理采用機(jī)械過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、5μm保安濾器。其中機(jī)械過(guò)濾器除雜質(zhì)和泥沙；活性炭過(guò)濾器除有機(jī)物和異味； 5μm保安濾器去除大于5μm以上的微粒，保證產(chǎn)水達(dá)到反滲透進(jìn)水的要求。
2、反滲透系統(tǒng)采用美國(guó)陶氏的BW型膜元件，能耗低，脫鹽率高、產(chǎn)水量大。
二、系統(tǒng)單元設(shè)備說(shuō)明
▲機(jī)械過(guò)濾器：去除水中的沙子、泥巴、鐵銹等懸浮物及部分膠體雜質(zhì)。
▲活性碳過(guò)濾器：去除有機(jī)物雜質(zhì)、部分臭味，除余氯。可防止有機(jī)物污染反滲透膜和余氯氧化反滲透膜。
▲5微米保安濾器:去除5微米以上的殘余微粒，防止堵塞反滲透膜。
▲一級(jí)高壓泵：給反滲透裝置供水和提供反滲透所需的壓力。
▲一級(jí)反滲透裝置：有效去除分子量在200以上的有機(jī)物大分子、有毒有害物質(zhì)。對(duì)離子的去除率大于99%，使產(chǎn)水電導(dǎo)率小于15μs/cm。
▲純水箱：儲(chǔ)存經(jīng)一級(jí)反滲透產(chǎn)純水，起緩沖作用，使水中二氧化碳?xì)怏w含量小于5ppm。
▲電控系統(tǒng)：控制整套設(shè)備的運(yùn)行。
省心：
直飲水設(shè)備（家用，辦公、工廠(chǎng)，商用凈水設(shè)備）一次投資，長(zhǎng)期使用！反滲透水處理機(jī)產(chǎn)出安全水，水，新鮮水，您從此不再為水質(zhì)不佳而擔(dān)心。
省事：
桶裝水需要搬運(yùn)，更換，等水和結(jié)款。純凈水可直接飲水機(jī)，可直接生飲。實(shí)現(xiàn)即制即飲。時(shí)時(shí)都是新鮮水。
省錢(qián)：
購(gòu)買(mǎi)桶裝水累計(jì)也是個(gè)不小數(shù)目，而直飲水設(shè)備可根據(jù)人數(shù)來(lái)定制機(jī)型大小。一定比桶裝實(shí)惠，健康、安全。
其耗電量低，成本經(jīng)濟(jì)，反滲透直飲水設(shè)備已成為單位、工廠(chǎng)飲水。

反滲透裝置（簡(jiǎn)稱(chēng)RO裝置）在除鹽系統(tǒng)中屬關(guān)鍵設(shè)備，裝置利用膜分離技術(shù)除去水中大部份離子、SiO2等，大幅降低TDS、減輕后續(xù)除鹽設(shè)備的運(yùn)行負(fù)荷。RO是將原水中的一部分沿與膜垂直的方向通過(guò)膜，水中的鹽類(lèi)和膠體物質(zhì)將在膜表面濃縮，剩余一部分原水沿與膜平行的方向?qū)饪s的物質(zhì)帶走，在運(yùn)行過(guò)程中自清洗。膜元件的水通量越大，回收率越高則其膜表面濃縮的程度越高，由于濃縮作用，膜表面處的物質(zhì)溶度與主體水流中物質(zhì)濃度不同，產(chǎn)生濃差極化現(xiàn)象。濃差極化會(huì)使膜表面鹽的濃度高，膜的滲透壓，引起鹽透過(guò)率，和為提高給水的壓力而需要多消耗能量，此時(shí)應(yīng)采用清洗的方法進(jìn)行恢復(fù)。
一、結(jié)構(gòu)形式：
反滲透裝置由復(fù)合膜元件、玻璃鋼壓力容器、碳鋼滑架和儀表控制柜組成。儀表控制柜裝備電導(dǎo)、、壓力等各種儀表，便于用戶(hù)隨時(shí)檢測(cè)和實(shí)現(xiàn)裝置運(yùn)行自動(dòng)化。
二、性能參數(shù)表:
為了保證反滲透裝置安全正常的運(yùn)行，進(jìn)裝置的原水進(jìn)行適當(dāng)處理和調(diào)整以達(dá)到下列指示:
三、裝置安裝:
反滲透裝置的安裝必須按下列條件執(zhí)行：
１．裝置運(yùn)到現(xiàn)場(chǎng)后，應(yīng)放置于室內(nèi)，周?chē)h(huán)境溫度不得低于5℃，不得高于38℃。當(dāng)溫度高于35℃時(shí)，應(yīng)加強(qiáng)通風(fēng)措施。
２．裝置到達(dá)后，應(yīng)在一個(gè)月內(nèi)安裝完畢，并應(yīng)立即進(jìn)行通水試車(chē)運(yùn)行。
３．裝置在未進(jìn)行通水試車(chē)之前，任何閥門(mén)均不得開(kāi)啟，以免保護(hù)溶液流出，致使元件損壞。
４．裝置就位后，應(yīng)調(diào)整裝置支承點(diǎn)，使組件處于基本水平的位置，且與基礎(chǔ)接觸可靠。
５．裝置與供水泵相接的管路及閥門(mén)在連接之前應(yīng)進(jìn)行脫脂處理，供水泵過(guò)流部份也應(yīng)進(jìn)行脫脂處理。
６．裝置的產(chǎn)水輸出管大輸出高度應(yīng)小于8米。
注：2、3點(diǎn)僅針對(duì)RO裝置內(nèi)已安裝膜元件的裝置。
四、調(diào)試步驟:
1. 對(duì)裝置的進(jìn)水進(jìn)行分析、測(cè)試，結(jié)果表明符合進(jìn)水要求，方可進(jìn)行裝置通水調(diào)試。
2. 對(duì)供水泵的壓力控制，水質(zhì)自動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)整。
3. 檢查裝置所有管道之間連接是否完善、壓力表是否齊全、低壓管道連接處是否緊密，有否短缺。
4. 開(kāi)啟泵前排放閥，啟動(dòng)預(yù)處理設(shè)備，并調(diào)整至供水量大于裝置進(jìn)水量。
5. 全開(kāi)各壓力表開(kāi)關(guān)和進(jìn)水閥、濃排閥、產(chǎn)水排放閥。
6. 關(guān)閉泵前排放閥，待組件內(nèi)充滿(mǎn)水后，關(guān)閉裝置進(jìn)水閥。
7. 待高壓泵進(jìn)口壓力大于0.2MPa，啟動(dòng)高壓泵，并緩緩開(kāi)啟裝置進(jìn)水閥同時(shí)關(guān)閉濃排閥，控制裝置總壓差小于0.3MPa，產(chǎn)水排放2分鐘后關(guān)閉產(chǎn)排閥，運(yùn)行15分鐘，并查各高、低壓管路、儀表是否工作正常。
8. 調(diào)整進(jìn)水閥、濃水出口閥使產(chǎn)水、濃水比例為 3 : 1 。
9. 檢測(cè)產(chǎn)品水電導(dǎo)率，符合要求時(shí)先開(kāi)啟產(chǎn)品水出水閥，再關(guān)閉產(chǎn)水排放閥。
10. 調(diào)試過(guò)程應(yīng)注意事項(xiàng):
10-1調(diào)試過(guò)程中進(jìn)水壓力不得大于1.5MPa。
10-2如進(jìn)水溫度高于、低于25℃時(shí)，應(yīng)根據(jù)水溫--產(chǎn)水量曲線(xiàn)進(jìn)行修正，控制回收率為75 ％。
10-3裝置連續(xù)運(yùn)行4小時(shí)后，脫鹽率不能達(dá)到設(shè)計(jì)脫除率應(yīng)逐一檢查裝置中每個(gè)組件的脫鹽率，確定產(chǎn)生故障的組件后加以更換元件。
10-4發(fā)現(xiàn)高壓管路有漏水需排除時(shí)，裝置應(yīng)卸壓，嚴(yán)禁高壓狀況下松動(dòng)高壓接頭。
五、裝置的運(yùn)行操作管理:
1．嚴(yán)格控制進(jìn)水水質(zhì)，保證裝置在符合進(jìn)水指標(biāo)要求的水質(zhì)條件下運(yùn)行。
2．操作壓力控制，應(yīng)在滿(mǎn)足產(chǎn)水量與水質(zhì)的前提下，取盡量低的壓力值，這樣有利于降低膜的水通量衰減，減少膜的更換率。
3．進(jìn)水溫度控制，應(yīng)根據(jù)實(shí)際用水量，取鄰界壓力(進(jìn)水壓力低于該值脫鹽率產(chǎn)生明顯下降的壓力值)不能滿(mǎn)足產(chǎn)水量與水質(zhì)要求的至低溫度來(lái)作為該時(shí)間階段內(nèi)的進(jìn)水溫度。這樣可以降低膜水量的衰減。
4．排放量控制，由于水溫、操作壓力等因素的變化，使裝置的產(chǎn)水量也發(fā)生相應(yīng)的變化，這時(shí)應(yīng)對(duì)排放量進(jìn)行調(diào)整，控制排放量與產(chǎn)水量之間比例為1:2.5-1: 3，否則將影響裝置的脫鹽率。
5．夏季水溫偏高的操作對(duì)策:
5-1在保證后處理對(duì)進(jìn)水含鹽量要求的前提下，降低操作壓力。實(shí)施減壓操作。此對(duì)策為優(yōu)選對(duì)策。
5-2根據(jù)供水量要求，輪流關(guān)停反滲透(限于裝有二臺(tái)以上反滲透的工廠(chǎng))，但關(guān)停時(shí)間不得大于(夏季)，否則容易造成膜面孳生，增加壓降。
6．裝置不得長(zhǎng)時(shí)間停運(yùn)，每天至少運(yùn)行2小時(shí)。如準(zhǔn)備停機(jī)72小時(shí)以上，應(yīng)用化學(xué)清洗裝置向組件內(nèi)充裝1%亞硫酸氫鈉和18%甘油實(shí)施保護(hù)。
8．反滲透每次停機(jī)和啟動(dòng)都應(yīng)讓裝置在進(jìn)水壓力小于0.4MPa條件下沖洗15分鐘。
9．操作工應(yīng)在每2小時(shí)對(duì)運(yùn)行參數(shù)進(jìn)行記錄，主要內(nèi)容應(yīng)包括:
進(jìn)水: PH值、電導(dǎo)率、壓力、SDI、水溫。
產(chǎn)水: 電導(dǎo)率、、PH。
濃水: 、壓力。以及各段進(jìn)水壓力。
10．嚴(yán)禁未經(jīng)培訓(xùn)人員上崗操作。
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