加工定制是
外形尺寸定制
水質(zhì)超純水
生產(chǎn)技術(shù)貴州鑫灃源環(huán)保
尺寸定制
機(jī)架304
質(zhì)保1年免費(fèi),終身維護(hù)
管道CPVC/UPVC
材質(zhì)304/UPVC
組裝模塊化
產(chǎn)水電阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃
安裝調(diào)試包含
組合模塊化
是否自動(dòng)全自動(dòng)
產(chǎn)水量0.25噸/小時(shí)至1000噸/小時(shí)
進(jìn)水水質(zhì)市政自來(lái)水或者井水
出水水質(zhì)符合客戶要求的純水水質(zhì)
電導(dǎo)率范圍0.055μS/cm~10μS/cm
電阻率范圍1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
生產(chǎn)地貴州貴陽(yáng)
貴州反滲透設(shè)備,反滲透設(shè)備的故障排除
反滲透設(shè)備在長(zhǎng)期的工作之后,不可避免的出現(xiàn)一些問(wèn)題,而這些問(wèn)題大多是使用者操作不當(dāng)引起的,那么現(xiàn)在由小編向大家介紹一下反滲透設(shè)備因操作不當(dāng)引起的故障分析。
1、反滲透設(shè)備的關(guān)機(jī)
(1)關(guān)機(jī)時(shí)快速降壓沒(méi)有進(jìn)行徹底沖洗,因?yàn)槟馑畟?cè)的無(wú)機(jī)鹽的濃度高于原水,容易結(jié)垢而被污染膜。
(2)因?yàn)榛瘜W(xué)試劑的水在設(shè)備停運(yùn)期間可能引起膜污染,所以用投加化學(xué)試劑的預(yù)處理水沖洗。反滲透設(shè)備在準(zhǔn)備關(guān)機(jī)時(shí),應(yīng)該停止投加化學(xué)試劑,逐漸降壓至3bar左右用與處理好的水沖洗十分鐘,直到濃縮水的TDS與原水的TDS很接近為止。
2、反滲透設(shè)備消毒和保養(yǎng)
因?yàn)榫埘0纺つ陀嗦刃暂^差,且在使用的過(guò)程中沒(méi)有正確的投加氯等消毒機(jī),加上用戶對(duì)微生物的預(yù)防重視不夠,容易造成微生物的污染,所以聚酰胺膜使用中普遍存在的問(wèn)題。
3、鹽透過(guò)率高,產(chǎn)水量滿意或者是稍高,每段之間的壓力差基本不變。
(1)膜元件或者是壓力容器上型圈漏水。
(2)膜元件袋粘合線破裂,膜元件中心管破裂或者是膜元件機(jī)械損。
(3)系統(tǒng)運(yùn)行有水錘產(chǎn)生。
面對(duì)本問(wèn)題的解決方法:
1、更換在膜元件或者是容器上已經(jīng)損或者是產(chǎn)生漏流O型圈。
2、對(duì)于破損膜元件進(jìn)行替換。
3、檢查給水壓力,產(chǎn)品水壓以及膜元件在運(yùn)行的壓力降是否合適,并且調(diào)整。
4、設(shè)計(jì)和運(yùn)行條件和系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)程序。
本現(xiàn)象主要表現(xiàn)在出廠時(shí),反滲透設(shè)備設(shè)有采用消毒液保養(yǎng),設(shè)備安裝好之后沒(méi)有對(duì)整個(gè)管路和預(yù)處理設(shè)別消毒,間斷的不采取消毒和保養(yǎng)措施,同時(shí)沒(méi)有定期的對(duì)預(yù)處理設(shè)備和反滲透設(shè)備消毒,保養(yǎng)液失效或者是濃度不夠。

純化水設(shè)備是采反滲透除鹽技術(shù)對(duì)水進(jìn)行處理,使出水水質(zhì)符合GMP認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn),符合中國(guó)藥典2010年版純化水標(biāo)準(zhǔn)。萊特萊德上海水處理公司生產(chǎn)的純化水設(shè)備的核心元件是進(jìn)口的復(fù)合膜,又采兩級(jí)殺菌消毒技術(shù)對(duì)水進(jìn)行處理,從而將水中的分子、離子、熱源、膠體微生物等有害物質(zhì)徹底分離,從未達(dá)到凈化水的目的。
純化水設(shè)備工藝流程
1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→水點(diǎn)
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→級(jí)反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→水點(diǎn)
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→水點(diǎn)
純化水設(shè)備的特點(diǎn)
1、產(chǎn)水符合2010版藥典純化水標(biāo)準(zhǔn),可符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
2、直接自來(lái)水制成土無(wú)菌超純水,能完全替代蒸餾水及雙蒸水。
3、純化水設(shè)備采進(jìn)口泵、反滲膜等部件。
4、采進(jìn)口儀表,能對(duì)水質(zhì)準(zhǔn)確、連續(xù)分析、顯示。
5、純化水設(shè)備全自動(dòng)操作系統(tǒng),自動(dòng)沖洗。

水質(zhì):出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備,我們公司生產(chǎn)反滲透+EDI超純水設(shè)備,有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),做過(guò)各行業(yè)的水處理設(shè)備,水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗; 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水;
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;
顯像管、螢光粉生產(chǎn);
汽車、家電表面拋光處理。

礦泉水設(shè)備技術(shù)是一種以篩分為分離原理、以壓力為推動(dòng)力的膜分離過(guò)程,過(guò)濾精度在0.005-0.01um范圍內(nèi),可有效去除水中的微粒、膠體、及高分子有機(jī)物等??蓮V泛應(yīng)用于物質(zhì)的分離、濃縮、提純。超濾過(guò)程無(wú)相轉(zhuǎn)化、具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能。超濾膜采用不同的組建形式、膜材料及工藝設(shè)計(jì),可以適應(yīng)各種不同的水質(zhì)條件及分離功能。
礦泉水設(shè)備是以膜兩側(cè)壓力差為動(dòng)力,以機(jī)械篩分原理為基礎(chǔ)的一種溶液分離,使用壓力通常為0.2MPa--0.6MPa分離孔徑1nm--0.1μm可廣泛應(yīng)用于物質(zhì)的分離、濃縮、提純。超濾過(guò)程無(wú)相轉(zhuǎn)化,常溫操作,對(duì)熱敏性物質(zhì)的分離尤為適宜,并具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能,能在60℃以下,PH為2-11的條件下長(zhǎng)期連續(xù)使用。
管式超濾器流通狀況好,不易堵塞、易清洗,適用于電泳涂漆回收、果汁濃縮、硅溶膠生產(chǎn)、油水分離等應(yīng)用中。
卷式超濾器具有:①膜面積大;
②器體結(jié)構(gòu)緊湊;
③安裝、維護(hù)簡(jiǎn)單;
④占地少;
⑤較其它超濾器能耗低等優(yōu)點(diǎn);
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