處理污水量按需求定
可售賣地全國
類型廢水處理設備
加工定制是
材質防腐碳鋼
防腐工藝環(huán)氧瀝青
電源380v
功率20-40kw
處理量5-1000噸
進水口50mm
出水口110mm
定制加工是
材料碳鋼
材料厚度6mm
處理類型屠宰廢水
排放標準一級A
規(guī)格定制
是否定制是
進出水口50
處理水量5-1000噸/每天
進水管徑DN50mm
出水管徑DN1100
生產(chǎn)周期3-5天
涂料廢水主要來源于配料罐、反應釜的清洗和配制不同顏色的涂料過程。廢水有機物濃度高,色度和懸浮物含量也較高; 此外,還含有大量納米級無機物料,如二氧化鈦、高嶺土和各種有色顏料等。
1.工藝流程
高濃度涂料廢水中TSS 含量較高,需進行氣浮處理以去除少量SS 及油性物質,氣浮處理出水與低濃度廢水混合進入調(diào)節(jié)池。調(diào)節(jié)池出水進入水解酸化池,出水進入一體化氧化溝,主要完成有機污染物的去除和同步硝化反硝化脫氮,再通過生物吸收塔和深度處理工藝,以確保出水達標排放。
2.主要構筑物及設計參數(shù)
2. 1 預處理
①調(diào)節(jié)池
調(diào)節(jié)進水水質、水量,必要時對來水進行加熱,以提高后續(xù)處理工藝的效率。有效池容為240 m3,鋼混結構。
②氣浮池
設計流量為10 m3/h,碳鋼防腐結構。配備刮渣機1 臺,寬為3 m。
③事故池
儲存生產(chǎn)事故時排放的廢水,有效容積為486m3,鋼混結構。
④初期雨水池
收集廠區(qū)的初期雨水,進入好氧系統(tǒng)進行處理。有效容積為1 269 m3,鋼混結構。
2. 2 厭氧池
在水解酸化池中投加少量活性炭,為厭氧污泥提供生長載體。有效池容為532 m3,停留時間為48h,鋼混結構。配備推流器2 臺,直徑為400 mm,功率為3 kW。
2. 3 一體式氧化溝
氧化溝采用鼓風曝氣。廢水中好氧微生物利用氧氣進行自身繁殖,降解水中大部分有機物,并去除N、P 等營養(yǎng)物質。在其中同樣投加活性炭,以提高去除效果。
氧化溝有效容積為1 500 m3,鋼混結構,停留時間為10 d,容積負荷為0.45 kgCOD/(m3·d) 。主要設備: 4 臺推流器,直徑為1.8 m,功率為0.75kW; 兩臺風機,風量為10 m3/min,風壓為63.7 kPa,功率為18.5 kW。
2. 4 二沉池
二沉池有效容積為275 m3,表面負荷為0.17m3/(m2·h) ,鋼混結構。
2. 5 集泥池
沉淀池排放的污泥經(jīng)過該池后回流至一體式氧化溝。有效容積為75 m3,鋼混結構。主要設備: 污泥回流泵,流量為50 m3/h,揚程為150 kPa,功率為3.0 kW,1 用1 備。
2. 6 深度處理池
在深度處理池內(nèi)設有絮凝加藥和活性炭投加吸附裝置,進一步降低二沉池出水各污染物的濃度。有效容積為275 m3,表面負荷為0.17 m3/(m2·h) ,鋼混結構。
2. 7 清水池
①清水池一
主要用來儲存深度處理出水,部分用作冷卻塔的循環(huán)補充水,部分外排。有效容積為275 m3,停留時間為2 d,鋼混結構。
②清水池二
有效容積為138 m3,停留時間為2 d,鋼混結構。
2. 8 污泥池
主要用來儲存氣浮池排放的浮渣和一體式氧化溝沉淀區(qū)排放的剩余污泥。有效容積為138 m3,鋼混結構。

隨著經(jīng)濟的發(fā)展和科技的進步,當今各大城市的科研單位和院校進行的科研實驗越來越深入、廣泛,從實驗室中排放的實驗室廢水相對增多,廢水的水質相當復雜。
此類廢水的排放周期不定,排放水量也無規(guī)律性,且所含污染物成分較為復雜,除含有洗滌劑及常用溶劑等有機物外,還有較多的酸堿,有毒有害的有機物及重金屬,而且含有許多物質性質很難確定。
實驗室廢水水量相對較小,但如果不加處理就外排將對環(huán)境造成極大的污染。為了進一步加強對實驗室的管理,實驗室廢水綜合治理的方法與處理效果好、技術、投資較少的設備勢在必行。
醫(yī)院污水從廣義上講是屬于生活污水,但是醫(yī)院污水的特點是含有病原菌,因此其技術重點是把好消毒關。而且,對于醫(yī)院廢水而言,一般都含有對生物有抑制作用和難以生物降解的藥物成份,因此可以考慮采用前面放置厭氧處理的工藝,先將難降解的有機物水解。而且在供水日趨緊張,供水價格不斷上漲的今天,有必要對出水進行污水回用。
綜合以上考慮本方案擬用低能耗的厭氧水解+生物接觸氧化法為主體,一半的出水用來污水回用,回用水的處理采用混凝沉淀+吸附過濾+消毒工藝處理后可作為沖廁、綠化、洗車的污水處理工藝。
通過厭、好氧菌分解有機物達到降解去除綜合污水中有機污染物質與有害、有毒物質,然后達標排放。出水一半再經(jīng)過深度處理徹底消毒處理,達到消滅病菌、、保障人體健康,消除有機污染物所引起的污染隱患的目的;用于綠化和沖廁、車庫地板等沖洗。

廢水處理
①廢水通過進水管進入廢水調(diào)節(jié)池調(diào)節(jié)水質和水量。
②調(diào)節(jié)后的水通過氧化反應沉淀池混合攪拌區(qū)底部的進水管進入 氧化反應沉淀池,與來自藥液添加系統(tǒng)的過氧化氫、亞鐵鹽的藥液混合,利用 設置在攪拌區(qū)中部的攪拌裝置進行攪拌;過氧化氫與亞鐵鹽反應產(chǎn)生大量活潑 的羥基自由基,破壞大蒜素的結構,廢水中的污染物被氧化分解,氧化分解后 的廢水進入沉淀區(qū)的廢水流道,沉淀區(qū)的三相分離器實現(xiàn)泥水分離。
③污泥在重力的作用下下沉到氧化反應沉淀池沉淀區(qū)的下部,通過底 部的沉淀物排放閥排出;廢水通過溢水堰、出水管和連接管連通多級缺氧厭氧 反應池的進水管。
④污水通過多級缺氧厭氧反應池兼氧段的進水管進入多級缺氧厭氧反應池 的下部;廢水進入多級缺氧厭氧反應池后沿擋流板上下前進,依次通過兼氧段、 缺氧段和厭氧段的每個反應室的污泥床,反應池中的污泥隨著廢水的上下流動 和沼氣上升的作用而運動,擋流板的阻擋作用和污泥自身的沉降作用又使污泥 的流速降低,因此大量的污泥都被截留在反應池中,反應池中的微生物與廢水 中的有機物充分接觸。兼氧段的兼性菌、缺氧段和厭氧段的異養(yǎng)菌將污水中的 淀粉、纖維、碳水化合物等懸浮污染物和可溶性有機物水解為有機酸,使大分 子有機物分解為小分子有機物,不溶性的有機物轉化成可溶性有機物。
⑤厭氧反應后的廢水在厭氧段末端設有的三相分離器實現(xiàn)泥、水、甲烷氣 的分離,污泥在重力的作用下下沉到厭氧段下部,通過底部的污泥排放閥排出。 多級缺氧厭氧反應池產(chǎn)生的甲烷等廢氣通過反應池頂部集氣管收集排放。廢水 通過溢水堰、出水管和連接管連通好氧接觸氧化池的進水管。
⑥廢水通過進水管進入好氧接觸氧化池的中下部,在布水三角錐的作用下 均勻布水,所述的曝氣盤是均勻設置有微孔的微孔式曝氣盤,產(chǎn)生大量的微氣 泡,所述溶解氧測量調(diào)控裝置根據(jù)氧容量調(diào)控鼓風機工作,確保好氧接觸氧化 池水中的溶解氧大于2mg/L;活性污泥附著生長在曝氣盤上面的填料表面,不隨 水流動,因生物膜直接受到上升氣流的強烈攪動,不新;在充足供氧條件 下,填料表面的好氧微生物將廢水中的有機物進行降解;更新的生物膜在重力 的作用下下沉到好氧接觸氧化池的下部,通過底部的污泥排放管閥排出;處理 后的廢水通過溢流堰流出。
⑦好氧接觸氧化池的出水管連接多層好氧活動濾塔上部的布水管,廢水 通過多層過濾后落到下部的集水槽,在集水槽上部的二氧化氯消毒設備對處理 后的水進行消毒,水從好氧活動濾塔下部的出水管流出,實現(xiàn)廢水的達標排放。 每層濾塔的濾料支撐架設計成倒梯形抽屜式,一方面加強通風,避免產(chǎn)生臭氣, 另一方面便于觀察和更換濾料,當該層濾料堵塞嚴重,濾速很低時,只需把該 層濾料抽出更換即可。
⑧氧化反應沉淀池、多級缺氧厭氧反應池和好氧接觸氧化池產(chǎn)生的污 泥脫水后外運。

口腔污水處理器說明
口腔污水處理器是目前診所開辦所必須具備的一種廢水消毒設施,根據(jù)我國《機構水污染物排放標準》中的要求,對與口腔等小于20張床位一下小型機構,污水的排放應滿足標準當中的預處理標準要求即滿足菌類低指標值后即可排放,
產(chǎn)品特點、主要用途及使用范圍二氧化LV發(fā)生器是公司研究生產(chǎn)的高新技產(chǎn)品,該產(chǎn)品采用化學法工藝,以LV酸鈉和鹽酸為原料制備二氧化LV混合消毒液,可廣泛用于飲用水、游泳池、醫(yī)院污水的消毒;工業(yè)循環(huán)冷卻水殺菌滅藻;工業(yè)廢水脫色、除臭或去除還原性污染成分。
口腔內(nèi)所有的污水必須通過管道消毒器或管道輸入處理池中進行消毒處理后方能排放。管道消毒器與污水處理池的涉及必須符合以下要求:
(1)、應遠離區(qū)和接待區(qū),設計在較為隱蔽的地方。
(2)、有防腐蝕、防滲漏設施,一般采用1公分厚的高強度密胺板制成。
(3)、確保處理效果,安全耐用。
(4)、操作方便,便于消毒和清污,并有利于操作人員的安全。
口腔污水處理器特點:
1.二氧化LV發(fā)生器是自動控制運行的真空投加系統(tǒng),操作安全可靠。
2.發(fā)生系統(tǒng)LV酸鈉轉換率在85%以上。
3.控制系統(tǒng)采用微電腦控制,可實現(xiàn)自動恒溫控制,缺料、欠壓、保護功能。
4.設備布置工藝合理,管路、管件、閥門等配件布置美觀,單元為所有部件在本公司裝配固定好,確保在運輸過程中不遺失、損壞。
5.框架內(nèi)所有結構、材質,都能滿足當?shù)丨h(huán)境的防腐要求,并在此基礎上選用產(chǎn)品。
口腔污水處理器設備安裝條件
1.設備應安裝在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2.二氧化LV具有強腐蝕性,因此,在設備安裝時應避免與其它設備置于同一房間。
3.設備間應鋪設水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4.應在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,保持通風良好。
5.設備間應有壓力水源,壓力為0.2~0.4MPa。
6.設備間應有必要的照明設施及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。
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