病醫(yī)院污水處理裝置，其主要包括泵房、厭氧池、缺氧池、好氧池、二沉池、消毒池、過濾池及格柵、加氯消毒器、曝氣機(jī)、攪拌器組成;泵房內(nèi)依次設(shè)有反吸式水泵、內(nèi)回流水泵、壓力/空壓泵、污泥泵及水泵分別和上述各池連通;厭氧池、缺氧池、好氧池、二沉池、消毒池及過濾池六箱一體化，在過濾池一側(cè)邊設(shè)有格柵，在消毒池的一側(cè)邊設(shè)有加氯消毒器及出水口;在二沉池內(nèi)設(shè)有攪拌器，在好氧池還設(shè)有曝氣機(jī);本實(shí)用新型根據(jù)目前污水處理工藝上的落后，主要采取加氯消毒的方法，本技術(shù)從根本上解決污水處理后產(chǎn)生的二次污染，達(dá)到污水排放污染控制標(biāo)準(zhǔn)。
病醫(yī)院污水處理裝置，其特征在于：其主要包括泵房、 厭氧池、缺氧池、好氧池、二沉池、消毒池、過濾池及格柵、加氯消毒器、 曝氣機(jī)、攪拌器組成;泵房內(nèi)依次設(shè)有反吸式水泵、內(nèi)回流水泵、壓力/空 壓泵、污泥泵及水泵分別和上述各池連通;厭氧池、缺氧池、好氧池、二沉 池、消毒池及過濾池六箱一體化，在過濾池一側(cè)邊設(shè)有格柵，在消毒池的 一側(cè)邊設(shè)有加氯消毒器及出水口;在二沉池內(nèi)設(shè)有攪拌器，在好氧池還設(shè) 有曝氣機(jī)。
污水主要是的診療室、化驗室、病房、洗衣房、X片照 相室和手術(shù)室等排放的污水，其污水來源及成分十分復(fù)雜。醫(yī)院污水 中含有大量的病原、和化學(xué)藥劑，具有空間污染、急性 和潛伏性的特征。在國外，醫(yī)院污水作為一種污水，無論其 是否為與病人有關(guān)的污水，都要進(jìn)行徹底處理與消毒。而我國大 部分沒有設(shè)置污水處理系統(tǒng)，醫(yī)院污水很多時候作為一般生活污 水對待，沒有處理就直接排放于自然水體或市政管網(wǎng)，容易造成、 的擴(kuò)散。特別是排入自然河道后，下游群眾用這些水洗碗、洗菜 甚至是直接飲用，會染上消化道、胃腸道疾病。

電鍍是將金屬通過電解方法鍍到制品表面的過程，常用的鍍種有鍍鎳、鍍銅、鍍鉻、鍍鋅等，其電鍍工藝大體相同，在電鍍過程中，除油、酸洗和電鍍等操作之后，都用水清洗；電鍍廢水來源于電鍍生產(chǎn)過程中的鍍件清洗、鍍液過濾、廢鍍液、滲漏及地面沖洗等，其中鍍件清洗水占80%以上。
1.2廢水來源與分類
1.2.1來自氰化電鍍的鍍件清洗廢水及更換鍍液時少量高濃度廢液；
1.2.2其它電鍍鍍件清洗廢水及更換鍍液時少量高濃度廢液；
1.2.3車間地坪沖洗廢水；
1.3廢水量
廢水設(shè)計處理能力為：300m3/d，每天工作20小時，每小時處理15m3/h；
1.4廢水性質(zhì)與水質(zhì)狀況
序號
名稱
排放標(biāo)準(zhǔn)值
備注
1
Cu2+
≤0.5mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
2
Ni2+
≤0.5mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
3
COD
≤80mg/l
4
S S
≤50mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
5
PH值
6-9
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
6
氨氮
≤15mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
7
磷酸鹽
≤1.0mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
8
CN-
≤0.3mg/l
現(xiàn)已達(dá)標(biāo)
1.5排放標(biāo)準(zhǔn)
經(jīng)處理后出水執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》一級標(biāo)準(zhǔn)，即：pH 6~9、COD 100mg/L、SS 70mg/L、TCN 0.5mg/L、TCu  0.5mg/L、TNi 1mg/L。
2、設(shè)計依據(jù)
2.1貴公司關(guān)于COD深度處理工程設(shè)計施工委托書；
2.2廠方提供的電鍍廢水排放濃度范圍及流量、廢水處理場地等資料；
2.3廢水設(shè)計處理能力為：300m3/d，每天工作20小時，每小時處理15m3/h；
2.4本方案設(shè)計針對處理的污染物 ：CODcr；
2.5廢水經(jīng)處理后CODcr達(dá)到《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB21900-2008)2.1建設(shè)單位提供廢水量及水質(zhì)數(shù)據(jù)；
2.6環(huán)保部門對污染治理的指示與要求；
2.7《室外排水設(shè)計規(guī)范》(GBJ14-87)有關(guān)規(guī)定；
2.8《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB8978-1996)表4中的一級標(biāo)準(zhǔn)；
2.9環(huán)境工程手冊《水污染防治卷》，相關(guān)設(shè)計參數(shù)與技術(shù)要求。
三、新增CODcr深度處理工藝說明
(一) 項目設(shè)計參數(shù)
1、廢水設(shè)計處理量：300m3/d。
2、現(xiàn)有排放廢水pH、SS、Cu2+、COD、CN-、Ni2+、Cr3+、氨氮、磷酸鹽等污染物都穩(wěn)定達(dá)到了《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900—2008）表2標(biāo)準(zhǔn)，所以本方案只針對CODcr處理增加新的處理工藝。

口腔污水處理器說明
口腔污水處理器是目前診所開辦所必須具備的一種廢水消毒設(shè)施，根據(jù)我國《機(jī)構(gòu)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》中的要求，對與口腔等小于20張床位一下小型機(jī)構(gòu)，污水的排放應(yīng)滿足標(biāo)準(zhǔn)當(dāng)中的預(yù)處理標(biāo)準(zhǔn)要求即滿足菌類低指標(biāo)值后即可排放，
產(chǎn)品特點(diǎn)、主要用途及使用范圍二氧化LV發(fā)生器是公司研究生產(chǎn)的高新技產(chǎn)品,該產(chǎn)品采用化學(xué)法工藝,以LV酸鈉和鹽酸為原料制備二氧化LV混合消毒液,可廣泛用于飲用水、游泳池、醫(yī)院污水的消毒；工業(yè)循環(huán)冷卻水殺菌滅藻；工業(yè)廢水脫色、除臭或去除還原性污染成分。

口腔內(nèi)所有的污水必須通過管道消毒器或管道輸入處理池中進(jìn)行消毒處理后方能排放。管道消毒器與污水處理池的涉及必須符合以下要求：
（1）、應(yīng)遠(yuǎn)離區(qū)和接待區(qū)，設(shè)計在較為隱蔽的地方。
（2）、有防腐蝕、防滲漏設(shè)施，一般采用1公分厚的高強(qiáng)度密胺板制成。
（3）、確保處理效果，安全耐用。
（4）、操作方便，便于消毒和清污，并有利于操作人員的安全。
口腔污水處理器特點(diǎn)：
1.二氧化LV發(fā)生器是自動控制運(yùn)行的真空投加系統(tǒng),操作安全可靠。
2.發(fā)生系統(tǒng)LV酸鈉轉(zhuǎn)換率在85%以上。
3.控制系統(tǒng)采用微電腦控制,可實(shí)現(xiàn)自動恒溫控制,缺料、欠壓、保護(hù)功能。
4.設(shè)備布置工藝合理,管路、管件、閥門等配件布置美觀,單元為所有部件在本公司裝配固定好,確保在運(yùn)輸過程中不遺失、損壞。
5.框架內(nèi)所有結(jié)構(gòu)、材質(zhì),都能滿足當(dāng)?shù)丨h(huán)境的防腐要求,并在此基礎(chǔ)上選用產(chǎn)品。
口腔污水處理器設(shè)備安裝條件
1.設(shè)備應(yīng)安裝在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2.二氧化LV具有強(qiáng)腐蝕性,因此,在設(shè)備安裝時應(yīng)避免與其它設(shè)備置于同一房間。
3.設(shè)備間應(yīng)鋪設(shè)水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4.應(yīng)在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,保持通風(fēng)良好。
5.設(shè)備間應(yīng)有壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
6.設(shè)備間應(yīng)有必要的照明設(shè)施及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。

電鍍廢水的來源一般為：(1)鍍件清洗水；(2)廢電鍍液；(3)其他廢水，包括沖刷車間地面，刷洗極板洗水，通風(fēng)設(shè)備冷凝水，以及由于鍍槽滲漏或操作管理不當(dāng)造成的 “跑、冒、滴、漏”的各種槽液和排水；(4)設(shè)備冷卻水，冷卻水在使用過程中除溫度升高以外，未受到污染。電鍍廢水的水質(zhì)、水量與電鍍生產(chǎn)的工藝條件、生產(chǎn)負(fù)荷、操作管理與用水方式等因素有關(guān)。電鍍廢水的水質(zhì)復(fù)雜，成分不易控制，其中含有鉻、鎘、鎳、銅、鋅、金、銀等重金屬離子和等，有些屬于致、致畸、致突變的劇毒物質(zhì)。
廢水來源
電鍍廢水的來源一般為：
(1)鍍件清洗水；
(2)廢電鍍液；
(3)其他廢水，包括沖刷車間地面，刷洗極板洗水，通風(fēng)設(shè)備冷凝水，以及由于鍍槽滲漏或操作管理不當(dāng)造成的 “跑、冒、滴、漏”的各種槽液和排水；
(4)設(shè)備冷卻水，冷卻水在使用過程中除溫度升高以外，未受到污染。
(5)金屬表面處理：金屬表面處理包括表面處理前的清理、電鍍、鈍化膜保護(hù)、機(jī)械加工及涂料覆蓋等，主要以電鍍?yōu)橹鳌?br />http://xiningjiaxiao.com