口腔污水處理器說明
口腔污水處理器是目前診所開辦所必須具備的一種廢水消毒設施，根據(jù)我國《機構水污染物排放標準》中的要求，對與口腔等小于20張床位一下小型機構，污水的排放應滿足標準當中的預處理標準要求即滿足菌類低指標值后即可排放，
產(chǎn)品特點、主要用途及使用范圍二氧化LV發(fā)生器是公司研究生產(chǎn)的高新技產(chǎn)品,該產(chǎn)品采用化學法工藝,以LV酸鈉和鹽酸為原料制備二氧化LV混合消毒液,可廣泛用于飲用水、游泳池、醫(yī)院污水的消毒；工業(yè)循環(huán)冷卻水殺菌滅藻；工業(yè)廢水脫色、除臭或去除還原性污染成分。

口腔內(nèi)所有的污水必須通過管道消毒器或管道輸入處理池中進行消毒處理后方能排放。管道消毒器與污水處理池的涉及必須符合以下要求：
（1）、應遠離區(qū)和接待區(qū)，設計在較為隱蔽的地方。
（2）、有防腐蝕、防滲漏設施，一般采用1公分厚的高強度密胺板制成。
（3）、確保處理效果，安全耐用。
（4）、操作方便，便于消毒和清污，并有利于操作人員的安全。
口腔污水處理器特點：
1.二氧化LV發(fā)生器是自動控制運行的真空投加系統(tǒng),操作安全可靠。
2.發(fā)生系統(tǒng)LV酸鈉轉換率在85%以上。
3.控制系統(tǒng)采用微電腦控制,可實現(xiàn)自動恒溫控制,缺料、欠壓、保護功能。
4.設備布置工藝合理,管路、管件、閥門等配件布置美觀,單元為所有部件在本公司裝配固定好,確保在運輸過程中不遺失、損壞。
5.框架內(nèi)所有結構、材質(zhì),都能滿足當?shù)丨h(huán)境的防腐要求,并在此基礎上選用產(chǎn)品。
口腔污水處理器設備安裝條件
1.設備應安裝在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2.二氧化LV具有強腐蝕性,因此,在設備安裝時應避免與其它設備置于同一房間。
3.設備間應鋪設水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4.應在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,保持通風良好。
5.設備間應有壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
6.設備間應有必要的照明設施及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。

電鍍是將金屬通過電解方法鍍到制品表面的過程，常用的鍍種有鍍鎳、鍍銅、鍍鉻、鍍鋅等，其電鍍工藝大體相同，在電鍍過程中，除油、酸洗和電鍍等操作之后，都用水清洗；電鍍廢水來源于電鍍生產(chǎn)過程中的鍍件清洗、鍍液過濾、廢鍍液、滲漏及地面沖洗等，其中鍍件清洗水占80%以上。
1.2廢水來源與分類
1.2.1來自氰化電鍍的鍍件清洗廢水及更換鍍液時少量高濃度廢液；
1.2.2其它電鍍鍍件清洗廢水及更換鍍液時少量高濃度廢液；
1.2.3車間地坪沖洗廢水；
1.3廢水量
廢水設計處理能力為：300m3/d，每天工作20小時，每小時處理15m3/h；
1.4廢水性質(zhì)與水質(zhì)狀況
序號
名稱
排放標準值
備注
1
Cu2+
≤0.5mg/l
現(xiàn)已達標
2
Ni2+
≤0.5mg/l
現(xiàn)已達標
3
COD
≤80mg/l
4
S S
≤50mg/l
現(xiàn)已達標
5
PH值
6-9
現(xiàn)已達標
6
氨氮
≤15mg/l
現(xiàn)已達標
7
磷酸鹽
≤1.0mg/l
現(xiàn)已達標
8
CN-
≤0.3mg/l
現(xiàn)已達標
1.5排放標準
經(jīng)處理后出水執(zhí)行《污水綜合排放標準》一級標準，即：pH 6~9、COD 100mg/L、SS 70mg/L、TCN 0.5mg/L、TCu  0.5mg/L、TNi 1mg/L。
2、設計依據(jù)
2.1貴公司關于COD深度處理工程設計施工委托書；
2.2廠方提供的電鍍廢水排放濃度范圍及流量、廢水處理場地等資料；
2.3廢水設計處理能力為：300m3/d，每天工作20小時，每小時處理15m3/h；
2.4本方案設計針對處理的污染物 ：CODcr；
2.5廢水經(jīng)處理后CODcr達到《電鍍污染物排放標準》(GB21900-2008)2.1建設單位提供廢水量及水質(zhì)數(shù)據(jù)；
2.6環(huán)保部門對污染治理的指示與要求；
2.7《室外排水設計規(guī)范》(GBJ14-87)有關規(guī)定；
2.8《污水綜合排放標準》(GB8978-1996)表4中的一級標準；
2.9環(huán)境工程手冊《水污染防治卷》，相關設計參數(shù)與技術要求。
三、新增CODcr深度處理工藝說明
(一) 項目設計參數(shù)
1、廢水設計處理量：300m3/d。
2、現(xiàn)有排放廢水pH、SS、Cu2+、COD、CN-、Ni2+、Cr3+、氨氮、磷酸鹽等污染物都穩(wěn)定達到了《電鍍污染物排放標準》（GB21900—2008）表2標準，所以本方案只針對CODcr處理增加新的處理工藝。

醫(yī)院污水是指向自然環(huán)境或城市管道排放的污水。其水質(zhì)隨不同的性質(zhì)、規(guī)模和其所在地區(qū)而異，每張病床每天排放的污水量約為200-1000L，醫(yī)院污水中所含的主要污染物為：病原體(卵、病原菌、等)、有機物、漂浮及懸浮物、污染物等，這些具有污染源的污水如果不進行處理凈化，就會對環(huán)境和人體造成很大的危害，現(xiàn)有技術中對醫(yī)院污水的處理方式多種，但是效果均不佳，技術并不成熟，且對于較大規(guī)模的，其污水生產(chǎn)量甚至大于用水量，污水處理任務非常大，這就造成了污水效果處理不佳的問題，對于較小規(guī)模的鄉(xiāng)鎮(zhèn)來說，受成本的約束不能采用高昂的污水凈化設備，即采用較為簡單的污水處理方式，例如石灰消毒，不僅殺菌消毒不佳，更容易生產(chǎn)出較大量的污泥，更容易污染環(huán)境。
針對現(xiàn)有技術的不足，本發(fā)明提供了一種具有殺菌消毒功能的醫(yī)院污水處理回收設備，具備殺菌消毒效果好等優(yōu)點，解決了現(xiàn)有醫(yī)院污水處理效果不佳的問題。
為實現(xiàn)上述殺菌消毒效果好的目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種具有殺菌消毒功能的醫(yī)院污水處理回收設備，包括處理池體，所述處理池體的一端開設有進水渠道，所述進水渠道的一端延伸至處理池體的內(nèi)部并與調(diào)節(jié)池相連通，所述進水渠道的內(nèi)腔處焊接有格柵攔污裝置，所述調(diào)節(jié)池內(nèi)腔的底部通過鋼箍固定連接有曝氣管網(wǎng)，所述曝氣管網(wǎng)的一端延伸至調(diào)節(jié)池的外部并螺紋連接有氣泵，所述調(diào)節(jié)池的側壁處固定連接有潛污泵，所述潛污泵的出口螺紋連接有排污管，所述排污管的頂部延伸至氧化池的內(nèi)部，所述氧化池的內(nèi)部從左到右開設有氧化區(qū)、第二氧化區(qū)和生物膜過濾區(qū)，所述氧化區(qū)和第二氧化區(qū)之間通過半墻連接，所述第二氧化區(qū)和生物膜過濾區(qū)之間通過阻隔墻連接，所述生物膜過濾區(qū)的內(nèi)部固定連接有第二排污管，所述第二排污管上螺紋連接有提升水泵，所述第二排污管的一端延伸至沉淀罐的內(nèi)部，所述沉淀罐的底部通過支腿焊接有污泥池，所述沉淀罐外壁的一側通過第三排污管固定連接有消毒罐，所述沉淀罐外壁的另一側通過污泥管固定連接有污泥干化裝置，所述消毒罐的外壁處開設有消毒劑進口，所述消毒罐的一端固定連接有凈化水管，所述凈化水管的一端延伸至處理池體的外部。
優(yōu)化本技術方案，所述處理池體為鋼構混凝土結構，所述處理池體的形狀為矩形，所述進水渠道為混凝土澆筑結構，所述進水渠道的一端與污水排放管連接。
優(yōu)化本技術方案，所述格柵攔污裝置包括機殼，所述機殼的內(nèi)部活動連接有傳送帶，所述傳送帶的內(nèi)壁處固定連接有珊網(wǎng)柱，所述珊網(wǎng)柱為鏤空圓柱體，所述傳送帶的內(nèi)腔處活動連接傳動軸，所述傳動軸的外壁處通過傳送皮帶傳動連接有電機，所述電機的外部設置有防護罩。
優(yōu)化本技術方案，所述電機固定連接在機殼的頂部，所述機殼的一端與排污殼相連通，所述排污殼的底部固定連接有存污池，所述存污池的一端通過第二污泥管與污泥池固定連接，所述第二污泥管上設置有污泥泵，
優(yōu)化本技術方案，所述氧化區(qū)的內(nèi)部固定連接有生物彈性填料，所述生物彈性填料的排列方式為并列式，所述第二氧化區(qū)的內(nèi)部固定連接有第二生物彈性填料，所述第二生物彈性填料的排列方式為交叉式。
優(yōu)化本技術方案，所述第二氧化區(qū)的內(nèi)部固定連接有第四排污管，所述第四排污管的頂部延伸至生物膜過濾區(qū)的內(nèi)部，所述第四排污管上個螺紋連接有增壓泵，所述生物膜過濾區(qū)的內(nèi)部固定連接有生物過濾膜。
優(yōu)化本技術方案，所述沉淀罐包括罐體，所述罐體的內(nèi)部固定連接有主管，所述主管的底部固定連接有阻攔扇板，所述阻攔扇板為透水過濾膜，所述阻攔扇板的周壁處與罐體的內(nèi)壁處固定連接，所述阻攔扇板的底部開設有沉淀槽，所述沉淀槽的底部與污泥池相連通。
優(yōu)化本技術方案，污泥干化裝置包括高溫倉，所述高溫倉的內(nèi)部從上到下依次活動連接有第二傳送帶、第三傳送帶和第四傳送帶，所述高溫倉的底部開設有熱風通道和干泥出口，所述熱風通道上螺紋連接有熱風泵，所述高溫倉的頂部開設有出風管道。
優(yōu)化本技術方案，所述第二傳送帶的傳動方向為順時針，所述第三傳送帶的傳動方向為逆時針，所述第四傳送帶的傳動方向為順時針，所述第二傳送帶、第三傳送帶和第四傳送帶的規(guī)格相同。

涂料廢水主要來源于配料罐、反應釜的清洗和配制不同顏色的涂料過程。廢水有機物濃度高，色度和懸浮物含量也較高; 此外，還含有大量納米級無機物料，如二氧化鈦、高嶺土和各種有色顏料等。
1.工藝流程
高濃度涂料廢水中TSS 含量較高，需進行氣浮處理以去除少量SS 及油性物質(zhì)，氣浮處理出水與低濃度廢水混合進入調(diào)節(jié)池。調(diào)節(jié)池出水進入水解酸化池，出水進入一體化氧化溝，主要完成有機污染物的去除和同步硝化反硝化脫氮，再通過生物吸收塔和深度處理工藝，以確保出水達標排放。
2.主要構筑物及設計參數(shù)
2. 1 預處理
①調(diào)節(jié)池
調(diào)節(jié)進水水質(zhì)、水量，必要時對來水進行加熱，以提高后續(xù)處理工藝的效率。有效池容為240 m3，鋼混結構。
②氣浮池
設計流量為10 m3/h，碳鋼防腐結構。配備刮渣機1 臺，寬為3 m。
③事故池
儲存生產(chǎn)事故時排放的廢水，有效容積為486m3，鋼混結構。
④初期雨水池
收集廠區(qū)的初期雨水，進入好氧系統(tǒng)進行處理。有效容積為1 269 m3，鋼混結構。
2. 2 厭氧池
在水解酸化池中投加少量活性炭，為厭氧污泥提供生長載體。有效池容為532 m3，停留時間為48h，鋼混結構。配備推流器2 臺，直徑為400 mm，功率為3 kW。
2. 3 一體式氧化溝
氧化溝采用鼓風曝氣。廢水中好氧微生物利用氧氣進行自身繁殖，降解水中大部分有機物，并去除N、P 等營養(yǎng)物質(zhì)。在其中同樣投加活性炭，以提高去除效果。
氧化溝有效容積為1 500 m3，鋼混結構，停留時間為10 d，容積負荷為0．45 kgCOD/(m3·d) 。主要設備: 4 臺推流器，直徑為1．8 m，功率為0．75kW; 兩臺風機，風量為10 m3/min，風壓為63．7 kPa，功率為18．5 kW。
2. 4 二沉池
二沉池有效容積為275 m3，表面負荷為0．17m3/(m2·h) ，鋼混結構。
2. 5 集泥池
沉淀池排放的污泥經(jīng)過該池后回流至一體式氧化溝。有效容積為75 m3，鋼混結構。主要設備: 污泥回流泵，流量為50 m3/h，揚程為150 kPa，功率為3．0 kW，1 用1 備。
2. 6 深度處理池
在深度處理池內(nèi)設有絮凝加藥和活性炭投加吸附裝置，進一步降低二沉池出水各污染物的濃度。有效容積為275 m3，表面負荷為0．17 m3/(m2·h) ，鋼混結構。
2. 7 清水池
①清水池一
主要用來儲存深度處理出水，部分用作冷卻塔的循環(huán)補充水，部分外排。有效容積為275 m3，停留時間為2 d，鋼混結構。
②清水池二
有效容積為138 m3，停留時間為2 d，鋼混結構。
2. 8 污泥池
主要用來儲存氣浮池排放的浮渣和一體式氧化溝沉淀區(qū)排放的剩余污泥。有效容積為138 m3，鋼混結構。
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