醫(yī)院污水處理設(shè)備
本實用新型涉及污水處理裝置，特別是一種地埋式無動力醫(yī)院污水處理 設(shè)備。
現(xiàn)有技術(shù)中污水處理用臭氧消毒裝置、次發(fā)生裝置、二氧化氯發(fā) 生器，用這些裝置需用電，并用水泵提升進行污水處理，而雙虹吸可不用電 進行運轉(zhuǎn)，但污泥無法排出池外進行處理，同時，消毒劑必須外購。
本實用新型的目的在于：提供一種地埋式無動力醫(yī)院污水處理設(shè)備，它 利用勢能和動能相互轉(zhuǎn)換獲得動力，實現(xiàn)水封、壓縮、旋流、啟動、投放、 混合、翻騰、推流、自排全過程自動運轉(zhuǎn)，從而實現(xiàn)了醫(yī)院污水處理過程無 電自動化，并能自動調(diào)節(jié)污水高、低峰各時期投藥濃度，圓滿解決了污 水不均、投藥濃度不易控制、污泥不能自動排出的技術(shù)難題，確保污水 處理長期穩(wěn)定運行，凈化后水于國家標(biāo)準。
本實用新型的構(gòu)成：由格柵裝置、沉淀計量裝置、射流混合裝置、混合 貯存裝置、自動投藥裝置、推流翻騰氧化裝置、動能轉(zhuǎn)換器、勢能轉(zhuǎn)換裝置 和污泥干化裝置組成，是全密封式結(jié)構(gòu)，在格柵裝置(3)內(nèi)橫向安裝格柵 (2)，前面上安裝污水進水管(1)，格柵裝置(3)與沉淀計量裝置 (4)連通，在沉淀計量裝置(4)內(nèi)安裝勢能轉(zhuǎn)換裝置(19)和動能轉(zhuǎn)換 器(18)，在沉淀計量裝置上方的控制間(6)內(nèi)，安裝電解槽(7)、自 動投藥裝置(11)、濾藥箱(10)、投藥管(5)、混合貯存裝置(9)和 射流混合裝置(8)，混合貯存裝置(9)與自動投藥裝置(11)連接，在 與動能轉(zhuǎn)換器(18)連接的推流翻騰氧化裝置(12)內(nèi)，有導(dǎo)流板(13) (14)(15)(16)，后端有出水管(17)，污泥干化裝置(21)與沉淀計 量裝置(4)連接。格柵(2)上布滿小孔。在推流翻騰氧化裝置(12)的 前端，橫向安裝導(dǎo)流板(13)(14)，后端橫向安裝導(dǎo)流板(16)，縱向均 布導(dǎo)流板(15)。勢能轉(zhuǎn)換裝置(19)是筒口向下的圓筒形，在筒內(nèi)安裝管 形動能轉(zhuǎn)換器(18)，上管口與勢能轉(zhuǎn)換裝置(19)筒底留有空間，在勢能 轉(zhuǎn)換裝置(19)的筒底上，安裝投藥管(5)，投藥管一端與筒內(nèi)連通，另 一端連接自動投藥裝置(11)。射流混合裝置(8)是三通式，豎管下端連 接電解槽(7)，橫管一端連接自來水進水管，另一端連接混合貯存裝置 (9)。
與現(xiàn)有技術(shù)比較，本實用新型采用全密封式結(jié)構(gòu)，設(shè)備埋入地下， 不用電源，無傳動設(shè)備，無噪音、無異味，不污染環(huán)境，不占地，能自動調(diào) 節(jié)污水高、低峰各時期投藥濃度，該設(shè)備可任意選用、次、次氯 酸鈣、沉淀劑、脫色劑、中和劑等多種藥劑做消毒劑，還可以自產(chǎn)自備二氧 化氯、次等消毒劑，凈化后的水于國家規(guī)定的排放標(biāo)準，無需管 理，由于該設(shè)備自動化程度高，一次調(diào)準可保持處理效果永遠不變，不需要 專人管理，不用電源，節(jié)約了運行費和管理費用，不需清掏污泥，池底污泥 能無電自動排出進行處理。

一體化氣浮水處理裝置的工作原理，是在一定的壓力（0.35~0.45Mpa）下，通過射流器吸入適量的空氣，與回流水在溶氣罐內(nèi)形成飽和溶氣載體，經(jīng)釋放器聚然減壓釋放而獲得大量的微細氣泡，其量度、粒度、穩(wěn)定性佳值之內(nèi)。氣泡迅速黏附于水中的顆粒、乳化油、纖維等雜質(zhì)和經(jīng)混凝反應(yīng)形成的絮體，造成絮體比重小于水的狀態(tài)，而被強制迅速浮于水面，從而實現(xiàn)固液分離。渣浮于水面被刮走，而分離水則通過底部穿孔管進入清水箱，部分水回流作溶氣水，而清水則通過閥門排出。

電鍍廢水處理介紹
電鍍生產(chǎn)工藝及排放廢水情況簡述
大多數(shù)電鍍廠系綜合性多鍍種作業(yè)，涉及鉻、鎳、鋅、銅等多鍍種，從被鍍件種類可分為金屬鍍件和塑料鍍件，含氰電鍍工藝落后雖然大部分淘汰，但亦有不少電鍍廠仍在沿用。
一般電鍍廠的生產(chǎn)工藝如下：電鍍生產(chǎn)工藝主要為機械拋光(磨光或滾光)→除油→酸浸蝕→電鍍→烘干→合格產(chǎn)品入庫
不合格產(chǎn)品退鍍
鍍件預(yù)處理機械拋光(磨光或滾光)
主要是借助于特制機械利用機械中的磨光輪或帶(或是磨料去除某些鍍件采用滾筒加磨料去銹)去掉被鍍件上的毛刺、劃痕、焊瘤、砂眼等，以提高被鍍件的平整度提高鍍件質(zhì)量。此段工序無廢水排放。
除油
金屬制品的鍍件，由于經(jīng)過各種加工和處理，不可避免的會粘附一層油污，為保證鍍層與基體的牢固結(jié)合，必須清除被鍍件表面上的油污。除油工藝有很多種，主要采用除油，其工藝如下：
拋光后零件→清水洗→除油槽→清水槽→清水沖洗
該段工序中廢水主要來源于清水沖洗過程，水質(zhì)PH值在8.5—10之間。
浸蝕
除油后的零件，表面上往往有很多的銹和比較厚的氧化膜，為了獲得光亮的鍍層，使鍍層與基體更好的結(jié)合，就必須將零件上的銹和氧化膜去除掉，經(jīng)過酸浸泡后還可以活化零件表面。其工藝如下：
除油后零件→酸水槽→回收槽→清水槽→清水沖洗
該工段廢水主要來源于清水沖洗過程，廢水中含有大量的鐵離子，PH值在2~5之間。
電鍍生產(chǎn)過程及各鍍種的水質(zhì)
其生產(chǎn)工藝一般為：浸蝕處理后零件→電鍍槽→回收槽→清水槽→清水沖洗。
該工段廢水主要來源于清水沖洗過程，廢水中含有相應(yīng)的金屬離子或，在氰化鍍銅沖洗水中含有和銅離子;鍍鉻沖洗水中含有六價鉻;鍍鎳沖洗水中含有鎳離子等。沖洗水中根據(jù)鍍種的不同出水進行分流處理，如含氰廢水分流后經(jīng)過二級破氰、調(diào)PH值，固液分離后可達標(biāo)排放;含鉻廢水分流后經(jīng)過還原反應(yīng)，再經(jīng)過中和、固液分離后可達標(biāo)排放。
烘干入庫
該工序主要是借助于機械和自然能、熱能將電鍍沖洗后的零件表面的水分烘干，以免生銹和氧化膜的破壞。
該段工序無廢水排放。
退鍍
退鍍工藝有化學(xué)浸漬和陽極電解兩種方法，其工藝為：
不合格鍍件→退鍍槽→回收槽→清水槽→清水沖洗。
該工段廢水PH為2~6之間，廢水主要來源于退鍍后的漂洗水。退鍍漂洗水可以進入各自廢水池進行處理，但不可直接進入廢水混合處理池，應(yīng)先單預(yù)處理后排入到相應(yīng)的廢水處理支流。

口腔污水處理器說明
口腔污水處理器是目前診所開辦所必須具備的一種廢水消毒設(shè)施，根據(jù)我國《機構(gòu)水污染物排放標(biāo)準》中的要求，對與口腔等小于20張床位一下小型機構(gòu)，污水的排放應(yīng)滿足標(biāo)準當(dāng)中的預(yù)處理標(biāo)準要求即滿足菌類低指標(biāo)值后即可排放，
產(chǎn)品特點、主要用途及使用范圍二氧化LV發(fā)生器是公司研究生產(chǎn)的高新技產(chǎn)品,該產(chǎn)品采用化學(xué)法工藝,以LV酸鈉和鹽酸為原料制備二氧化LV混合消毒液,可廣泛用于飲用水、游泳池、醫(yī)院污水的消毒；工業(yè)循環(huán)冷卻水殺菌滅藻；工業(yè)廢水脫色、除臭或去除還原性污染成分。

口腔內(nèi)所有的污水必須通過管道消毒器或管道輸入處理池中進行消毒處理后方能排放。管道消毒器與污水處理池的涉及必須符合以下要求：
（1）、應(yīng)遠離區(qū)和接待區(qū)，設(shè)計在較為隱蔽的地方。
（2）、有防腐蝕、防滲漏設(shè)施，一般采用1公分厚的高強度密胺板制成。
（3）、確保處理效果，安全耐用。
（4）、操作方便，便于消毒和清污，并有利于操作人員的安全。
口腔污水處理器特點：
1.二氧化LV發(fā)生器是自動控制運行的真空投加系統(tǒng),操作安全可靠。
2.發(fā)生系統(tǒng)LV酸鈉轉(zhuǎn)換率在85%以上。
3.控制系統(tǒng)采用微電腦控制,可實現(xiàn)自動恒溫控制,缺料、欠壓、保護功能。
4.設(shè)備布置工藝合理,管路、管件、閥門等配件布置美觀,單元為所有部件在本公司裝配固定好,確保在運輸過程中不遺失、損壞。
5.框架內(nèi)所有結(jié)構(gòu)、材質(zhì),都能滿足當(dāng)?shù)丨h(huán)境的防腐要求,并在此基礎(chǔ)上選用產(chǎn)品。
口腔污水處理器設(shè)備安裝條件
1.設(shè)備應(yīng)安裝在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2.二氧化LV具有強腐蝕性,因此,在設(shè)備安裝時應(yīng)避免與其它設(shè)備置于同一房間。
3.設(shè)備間應(yīng)鋪設(shè)水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4.應(yīng)在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,保持通風(fēng)良好。
5.設(shè)備間應(yīng)有壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
6.設(shè)備間應(yīng)有必要的照明設(shè)施及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。
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