加工定制是
外形尺寸定制
水質(zhì)超純水
生產(chǎn)技術(shù)貴州鑫灃源環(huán)保
尺寸定制
機(jī)架304
質(zhì)保1年免費(fèi),終身維護(hù)
管道CPVC/UPVC
材質(zhì)304/UPVC
組裝模塊化
產(chǎn)水電阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃
安裝調(diào)試包含
組合模塊化
是否自動(dòng)全自動(dòng)
產(chǎn)水量0.25噸/小時(shí)至1000噸/小時(shí)
進(jìn)水水質(zhì)市政自來水或者井水
出水水質(zhì)符合客戶要求的純水水質(zhì)
電導(dǎo)率范圍0.055μS/cm~10μS/cm
電阻率范圍1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
生產(chǎn)地貴州貴陽
生活用水系統(tǒng)就是應(yīng)用在酒店中的水處理設(shè)備,由于該設(shè)備的出水質(zhì)量比較好,所以人們可以放心飲用,不會(huì)對(duì)人體造成一定的危害。安裝生活用水系統(tǒng)也是職工的一種福利,保證它們的飲水健康。生活用水系統(tǒng)能夠有效的去除各種雜質(zhì)、、熱源等有害物質(zhì),保證設(shè)備的出水水質(zhì)的良好。本文主要介紹的是直飲水設(shè)備的特點(diǎn)。
100噸生活用水系統(tǒng)石英砂過濾器工作原理
石英砂過濾器主要是利用石英砂填料來降低水中濁度,截留除去水中懸浮物、有機(jī)物、膠質(zhì)顆粒、微生物、氯嗅味及部分重金屬離子,使給水得到凈化的水處理傳統(tǒng)方法之一。一種或幾種過濾介質(zhì)在一定的壓力下,使原液通過該介質(zhì),去除雜質(zhì),從而達(dá)到過濾的目的。其內(nèi)裝的填料一般為:石英砂、無煙煤、顆粒多孔陶瓷、錳砂等,用戶可根據(jù)實(shí)際情況選擇使用。進(jìn)水濁度要求小于20度,出水濁度可達(dá)3度以下。利用石英砂有較好的載污能力,水通過石英砂時(shí),水中的懸浮物和膠體雜質(zhì)被吸附截留,水中雜質(zhì)從而被去除,出水達(dá)到透明。使用該設(shè)備,可保證給水污染指數(shù)SDI<5,給水濁度<1NTU。
100噸生活用水系統(tǒng)活性碳過濾器工作原理
活性炭制造工藝包括兩個(gè)過程:一是脫水和炭化;二是活化。由此形成了特有的多孔隙結(jié)構(gòu)而產(chǎn)生的表面積,具有強(qiáng)大的物理吸附能力。此外,在活化過程中、活性炭表面的非結(jié)構(gòu)部分上形成一些含氧官能團(tuán),如:羥基,羧基這些基團(tuán)使活性炭具有化學(xué)吸附和催化氧化、還原的性能。
100噸生活用水系統(tǒng)的特點(diǎn)
1、采用進(jìn)口活性炭纖維濾材,吸附余氯和有機(jī)物。
2、卡接式自動(dòng)斷水設(shè)計(jì),精巧的設(shè)計(jì),讓濾芯輕松更換。
3、可根據(jù)各地水質(zhì)不同、搭配不同的功能濾芯,組成適合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的凈水產(chǎn)品。
4、經(jīng)耐壓測試,杜絕漏水隱患。
5、一體式濾芯設(shè)計(jì),避免接觸污染。
6、采用食品級(jí)PP材料,確保安全。

反滲透水處理設(shè)備系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)
反滲透(RO)技術(shù)是一種節(jié)能技術(shù)。它依靠壓力推動(dòng)將水和離子分離,從而達(dá)到純化和濃縮的目的。該過程無相變,一般不需加熱,能耗低,具有運(yùn)行成本低,無污染,操作方便運(yùn)行可靠,產(chǎn)水水質(zhì)高等諸多優(yōu)點(diǎn),而成為海水和苦咸水淡化節(jié)能的技術(shù)。已廣泛應(yīng)用于、電子、化工、食品、海水淡化等諸多行業(yè)。反滲透技術(shù)已成為現(xiàn)代工業(yè)中的水處理技術(shù)。反滲透(RO)技術(shù)成為膜分離技術(shù)的一個(gè)重要組成部分。
( 1 )可以從海水或苦咸水中提取淡水;
( 2 )容易去除有機(jī)物、和膠體及溶于水中的其它雜質(zhì),獲得高純度的水;
( 3 )由于反滲透過程是一個(gè)物理過程,沒有相變,因而節(jié)能;
( 4 )操作簡單,易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化,節(jié)省勞力;
( 5 )結(jié)構(gòu)緊湊,占地小,從而降低費(fèi)用;
( 6 )作為一種濃縮方法,能回收溶解在溶液中有的成份。
反滲透水處理設(shè)備—清洗保養(yǎng)
反滲透設(shè)備的清洗有兩種方式,在線清洗和離線清洗。
一、在線清洗
在線清洗是指對(duì)反滲透裝置整體進(jìn)行清洗,膜元件不用拿出壓力容器,通常在較大系統(tǒng)中設(shè)計(jì)使用。此清洗方式操作簡單方便,時(shí)間短,但容易造成清洗不徹底,效果不理想。當(dāng)反滲透裝置污染較輕時(shí)可采用此方法。
二、離線清洗
離線清洗是指將膜元件從反滲透壓力容器中卸下,裝入清洗設(shè)備中進(jìn)行清洗,通常一次清洗數(shù)量不超過6支。此清洗方式操作簡單方便,清洗徹底、效果。但膜元件較多時(shí),清洗時(shí)間較長。當(dāng)反滲透污染較嚴(yán)重或在線清洗效果差時(shí)可采用此方法。
三、EDI 清洗
隨著工作時(shí)間的累積,需要對(duì)EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?br/>1. 硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)
2.在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢(例如,硅)
3.在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢
4.EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢
5.以上所有情況一起出現(xiàn)

水質(zhì):出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備,我們公司生產(chǎn)反滲透+EDI超純水設(shè)備,有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),做過各行業(yè)的水處理設(shè)備,水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗; 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;
顯像管、螢光粉生產(chǎn);
汽車、家電表面拋光處理。

反滲透設(shè)備反洗工藝
反滲透設(shè)備因?yàn)橐恍┊a(chǎn)品使用的材料強(qiáng)度不夠及其耐侵蝕性差,造成橫軸斷裂等設(shè)備故障,并且膜的種類不同對(duì)進(jìn)水水質(zhì)要求也有所不同。膜兩側(cè)有一個(gè)壓力差,如水處理設(shè)備中應(yīng)用廣泛的格柵除污機(jī),因?yàn)橐恍┊a(chǎn)品使用的材料強(qiáng)度不夠及其耐侵蝕性差,反滲透設(shè)備造成橫軸斷裂等設(shè)備故障,還不包括因?yàn)榫S修影響運(yùn)行造成的損失,嚴(yán)重影響了環(huán)境保護(hù)投資效益,還會(huì)使反滲透膜表面極易結(jié)垢,采用反滲透膜殼可以有效的保護(hù)膜元件。
全自動(dòng)反滲透設(shè)備
全自動(dòng)反滲透設(shè)備
反滲透設(shè)備安裝注意事項(xiàng)
1、設(shè)備應(yīng)采用旁通式安裝,以便設(shè)備在不停機(jī)狀態(tài)下檢修與維護(hù)。
2、本設(shè)備可根據(jù)現(xiàn)場情況采用水平或垂直安裝,設(shè)備必須按進(jìn)出水口方向與管道連接,當(dāng)垂直安裝時(shí),設(shè)備進(jìn)水口朝上,水平安裝時(shí),排污口朝下。
http://xiningjiaxiao.com