1.電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 
光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學(xué)試劑 
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護(hù)簡易

一、超濾設(shè)備概述：
超濾是利用多孔材料的能力，以物理截留的方式去除水中一定大小的雜質(zhì)顆粒。在壓力驅(qū)動下，溶液中水、有機低分子、無機離子等尺寸小的物質(zhì)可通過纖維壁上的微孔到達(dá)膜的另一側(cè)，溶液中菌體、膠體、顆粒物、有機大分子等大尺寸物質(zhì)則不能透過纖維壁而被截留，從而達(dá)到篩分溶液中不同組分的目的。該過程為常溫操作，無相態(tài)變化，不產(chǎn)生二次污染。
中空纖維超濾膜是超濾技術(shù)中為成熟與的一種形式。中空纖維外徑0.5-2.0mm，內(nèi)徑0.3-1.4mm，中空纖維管壁上布滿微孔，孔徑以能截留物質(zhì)的分子量表達(dá)，截留分子量可達(dá)幾千至幾十萬。原水在中空纖維外側(cè)或內(nèi)腔加壓流動，分別構(gòu)成外壓式與內(nèi)壓式。超濾是動態(tài)過濾過程，被截留物質(zhì)可隨濃縮小排除，不致堵塞膜表面，可長期連續(xù)運行。
二、超濾設(shè)備工作原理：
超濾是一種以篩分為分離原理，以壓力為推動力的膜分離過程，過濾精度在0.005-0.01μm范圍內(nèi)， 可有效去除水中的微粒、膠體、、熱源及高分子有機物質(zhì)。可廣泛應(yīng)用于物質(zhì)的分離、濃縮、提純。超濾過程無相轉(zhuǎn)化，常溫下操作，對熱敏性物質(zhì)的分離尤為適宜，并具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能，能在60℃ 以下，pH為2-11的條件下長期連續(xù)使用。

貴州水處理設(shè)備，純凈水設(shè)備設(shè)計原理
純凈水設(shè)備是礦泉水廠中不可缺少的裝置，它的優(yōu)點在于可根據(jù)不同地區(qū)的水質(zhì)進(jìn)行設(shè)計不同的生產(chǎn)工藝使出水水質(zhì)達(dá)到統(tǒng)一國家標(biāo)準(zhǔn)。
純凈水設(shè)備工藝說明
如果原水水質(zhì)硬度高，需采用納濾與中空纖維超濾作為主要工藝，進(jìn)行水質(zhì)的凈化與水軟化。通過中空超濾，對水質(zhì)進(jìn)行凈化處理;再通過納濾，去除水中較硬的礦物質(zhì)。同時采用臭氧殺菌，輔以鈦棒過濾器，使得出水水質(zhì)符合礦泉水《GB8537-95》的規(guī)定。
如果原水水質(zhì)較好，原水中礦物質(zhì)成份比較簡單的礦泉水，采用兩級精密過濾器，臭氧滅菌和中空纖維超濾器的成熟工藝。使得終出水水質(zhì)符合國標(biāo)《GB8537-95》標(biāo)準(zhǔn)。
純凈水設(shè)備主要特點
1.自動模塊設(shè)計控制，流程清晰明了，操作簡單方便，易于維護(hù)保養(yǎng)
2.能夠使二級濃水回流，節(jié)電節(jié)水，降低運作成本
3.吸附過濾器，吸附流程長，所產(chǎn)純水穩(wěn)定、符合國標(biāo)
4.采用多級離心泵，動力持久，確保無障礙長期運行
5.選用UF系統(tǒng)程序自動控制器，自動定時沖洗，延長UF納濾膜使用壽命
由于純凈水設(shè)備原水一般采用地下水，山泉水，井水等，它們富有的礦物質(zhì)要比自來水礦物質(zhì)含量高，我國目前大多井水及地下水中鐵錳含量較高，因此可在純凈水設(shè)備預(yù)處理工藝中添加鐵錳過濾器，將水中對人們身體有害的鐵錳物質(zhì)完全去除。

電泳涂裝線、琉璃清洗線有很多水洗工藝。工件清洗的效果直接影響到產(chǎn)品生產(chǎn)后續(xù)的穩(wěn)定性。水洗一般有自來水噴淋清洗、自來水浸漬清洗、純水浸漬清洗、純水噴淋洗、干凈純水噴淋清洗等各道工序。 電泳涂裝線、琉璃清洗線水洗電導(dǎo)率一般要求在15μS/cm2。
電泳后的水洗：超濾水洗后，工件還需要純水清洗，一般有純水浸洗，再加上一道干凈純水噴淋清洗工序，也是采用逆向流動重復(fù)利用水，即干凈純水清洗工件后，返回到純水洗槽，然后通過純水槽溢流排出。電泳后的純水洗電導(dǎo)率一般要求15μS/cm2。電泳涂裝行業(yè)大型系統(tǒng)一般采用反滲透系統(tǒng)，小型系統(tǒng)可采用離子交換系統(tǒng)，一般用于飾品如表帶、鏡架、手機殼上的面彩色電泳對純水純度更高，需要在后面增加混床或EDI裝置以使產(chǎn)水電導(dǎo)率達(dá)到1uS/cm2。
離子交換與反滲透技術(shù)的比較：
離子交換與反滲透相比具有投資成本低的優(yōu)勢
離子交換設(shè)備占地一般反滲透設(shè)備要小
在原水水質(zhì)低于200uS/CM時其運行成本也低于反滲透系統(tǒng)
原水電導(dǎo)率高于500uS/CM時其運行成本會比較高
離子交換器交換飽合后需要用酸、堿進(jìn)行再生
反滲透不需酸堿再生，無環(huán)保問題
反滲透產(chǎn)水穩(wěn)定性比較好
反滲透操作簡單
反滲透在適合高鹽份(電導(dǎo)率)的水源
用于涂裝行業(yè)的離子交換設(shè)備：
離子交換是通過置換反應(yīng)交換水中的陰(CaCO32-SO42-，HCO3-等)陽(Ca2+， Mg2+，F(xiàn)e2+等)離子，同時釋放H+和OH-產(chǎn)生純水。這種工藝可實現(xiàn)自動化操作，需要酸堿再生， 在原水低鹽份(表現(xiàn)出現(xiàn)電導(dǎo)低于200左右)運行成本和投資成本雙低，但原水電導(dǎo)率達(dá)到500uS/CM2，運行成本就比較高了。
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