加工定制是
外形尺寸定制
水質(zhì)超純水
生產(chǎn)技術(shù)貴州鑫灃源環(huán)保
尺寸定制
機(jī)架304
質(zhì)保1年免費(fèi),終身維護(hù)
管道CPVC/UPVC
材質(zhì)304/UPVC
組裝模塊化
產(chǎn)水電阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃
安裝調(diào)試包含
組合模塊化
是否自動(dòng)全自動(dòng)
產(chǎn)水量0.25噸/小時(shí)至1000噸/小時(shí)
進(jìn)水水質(zhì)市政自來水或者井水
出水水質(zhì)符合客戶要求的純水水質(zhì)
電導(dǎo)率范圍0.055μS/cm~10μS/cm
電阻率范圍1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
生產(chǎn)地貴州貴陽
水質(zhì):出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備,我們公司生產(chǎn)反滲透+EDI超純水設(shè)備,有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),做過各行業(yè)的水處理設(shè)備,水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗; 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;
顯像管、螢光粉生產(chǎn);
汽車、家電表面拋光處理。

貴州純凈水設(shè)備,桶裝純凈水設(shè)備不能正常工作的主要因素
桶裝純凈水設(shè)備不能正常工作的主要因素
1、交流接觸器故障
交流接觸器損導(dǎo)致桶裝純凈水設(shè)備主機(jī)泵無法啟動(dòng)的情況時(shí)有發(fā)生。例如,原泵的交流接觸器無法自動(dòng)吸進(jìn),導(dǎo)致后系統(tǒng)無法工作。解決方法簡單,替換完全可以解決。
2、液位控制器損或未安裝到位。
液位控制器是桶裝純凈水設(shè)備的重要控制元件。桶裝純凈水設(shè)備一旦不啟動(dòng),首先需要檢查以下原水箱和純水水箱的液位控制器是否出現(xiàn)故障。
3、壓力開關(guān)設(shè)置不正確
壓力開關(guān)在系統(tǒng)的正常運(yùn)行中起著不可替代的作用,它保證了桶裝純凈水設(shè)備主機(jī)的供水壓力和相關(guān)泵的正常運(yùn)行。然而,由于設(shè)置錯(cuò)誤,主機(jī)通常無法啟動(dòng)。
4、水泵無法啟動(dòng)或損
在桶裝純凈水設(shè)備電控箱內(nèi)直接按下交流接觸器,手動(dòng)吸合,如果水泵能轉(zhuǎn),即可排除水泵故障。

有客戶反映,發(fā)現(xiàn)反滲透純水設(shè)備在使用期間,產(chǎn)水量越來越少,下降速度很快,咨詢該怎么辦?出現(xiàn)這種情況,需要查明其中的原因,對癥。
君浩環(huán)保根據(jù)多年的運(yùn)行經(jīng)驗(yàn),得出以下幾點(diǎn)原因,并列出相對的解決辦法,希望可以幫助到大家。
反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水量下降原因分析:
1、發(fā)生膜組件的壓密;
2、膜組件數(shù)量的減少;
3、運(yùn)轉(zhuǎn)溫度的下降;
4、在運(yùn)轉(zhuǎn)中反滲透設(shè)備壓差上升;
5、金屬氧化物和污濁物附著在膜面上;
6、低壓力運(yùn)轉(zhuǎn);
7、油分的混入;
8、在較高的回收率條件下運(yùn)轉(zhuǎn)。
反滲透純水設(shè)備
反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水量下降解決方法:
1、當(dāng)在高過基準(zhǔn)壓力的條件下運(yùn)轉(zhuǎn)就會發(fā)生膜組件的壓密現(xiàn)象,需要時(shí)更換膜組件;
2、按照設(shè)計(jì)的膜組件數(shù)量正常運(yùn)行;
3、按照設(shè)計(jì)溫度達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)25℃運(yùn)行;
4、改進(jìn)水處理設(shè)備的運(yùn)行管理,改進(jìn)進(jìn)反滲透水質(zhì)用藥品對于膜組件進(jìn)行清洗。
5、每天進(jìn)行低壓沖洗;
6、按照設(shè)計(jì)的基準(zhǔn)壓力標(biāo)準(zhǔn)調(diào)試運(yùn)行;
7、注意油物質(zhì)不可以進(jìn)入給水更換膜組件;
8、在75﹪以上回收率條件下運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),濃水的水量減少,膜組件內(nèi)水的濃縮倍率就會上升,造成給水水質(zhì)嚴(yán)重下降。由于這種給水的滲透壓上升,導(dǎo)致透過水量的減少。嚴(yán)重的時(shí)候,將在膜面上析出鹽垢。所以須按照設(shè)計(jì)回收率產(chǎn)水。

礦泉水設(shè)備技術(shù)是一種以篩分為分離原理、以壓力為推動(dòng)力的膜分離過程,過濾精度在0.005-0.01um范圍內(nèi),可有效去除水中的微粒、膠體、及高分子有機(jī)物等??蓮V泛應(yīng)用于物質(zhì)的分離、濃縮、提純。超濾過程無相轉(zhuǎn)化、具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能。超濾膜采用不同的組建形式、膜材料及工藝設(shè)計(jì),可以適應(yīng)各種不同的水質(zhì)條件及分離功能。
礦泉水設(shè)備是以膜兩側(cè)壓力差為動(dòng)力,以機(jī)械篩分原理為基礎(chǔ)的一種溶液分離,使用壓力通常為0.2MPa--0.6MPa分離孔徑1nm--0.1μm可廣泛應(yīng)用于物質(zhì)的分離、濃縮、提純。超濾過程無相轉(zhuǎn)化,常溫操作,對熱敏性物質(zhì)的分離尤為適宜,并具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能,能在60℃以下,PH為2-11的條件下長期連續(xù)使用。
管式超濾器流通狀況好,不易堵塞、易清洗,適用于電泳涂漆回收、果汁濃縮、硅溶膠生產(chǎn)、油水分離等應(yīng)用中。
卷式超濾器具有:①膜面積大;
②器體結(jié)構(gòu)緊湊;
③安裝、維護(hù)簡單;
④占地少;
⑤較其它超濾器能耗低等優(yōu)點(diǎn);
但較管式超濾器對預(yù)處理要求高
礦泉水設(shè)備生產(chǎn)工藝流程
原水箱→反洗增壓泵→機(jī)械過濾器→活性炭過濾器→1μm精濾→超濾→臭氧→凈水箱
礦泉水設(shè)備主要工藝流程說明
原水罐(可選)
儲存原水,用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質(zhì)。同時(shí)緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對水處理系統(tǒng)造成的沖擊。(如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應(yīng))。
原水泵
恒定系統(tǒng)供水壓力,穩(wěn)定供水量。
多介質(zhì)過濾器
采用多次過濾層的過濾器,主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物等顆粒在20um以上的物質(zhì),可選用手動(dòng)閥門控制或者全自動(dòng)控制器進(jìn)行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量,延長設(shè)備的使用壽命。
活性炭過濾器
系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器,活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子,還可進(jìn)行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使耗氧量(COD)由15mg/L(O2)降至2~7mg/L(O2),此外,由于吸附作用使表面被吸附復(fù)制的濃度增加,因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機(jī)物、降低水的余氯值及農(nóng)藥污染物和除去水中的三鹵化物(THM)以及其它的污染物。同時(shí),設(shè)備具有自我維護(hù)系統(tǒng),運(yùn)行費(fèi)用很低。
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