加工定制是
外形尺寸定制
水質超純水
生產技術貴州鑫灃源環(huán)保
尺寸定制
機架304
質保1年免費,終身維護
管道CPVC/UPVC
材質304/UPVC
組裝模塊化
產水電阻率:≥10----18.25MΩ..CM/25℃
安裝調試包含
組合模塊化
是否自動全自動
產水量0.25噸/小時至1000噸/小時
進水水質市政自來水或者井水
出水水質符合客戶要求的純水水質
電導率范圍0.055μS/cm~10μS/cm
電阻率范圍1MΩ·cm~18.2MΩ·cm(常溫下20°C)
生產地貴州貴陽
反滲透純水設備
詳情說明
產品參數:
型號:定制
產水量:0.25~200T/H(根據客戶需求而定)
進水水質:自來水、井水、地下水、中水(達標排放廢水)
純水水質:符合客戶要求的純水水質
電導率范圍:0.1μs/cm--10μs/cm
電阻率范圍:0.5MΩ.cm--18.2MΩ·cm
控制:全自動控制/手自一體化自動切換
反滲透純水設備簡介:
純水設備是用于工業(yè)生產用水水的純水制取裝置,根據客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產用純水的標準。純水設備系統(tǒng)采用反滲透水處理工藝,包含:原水泵、多介質過濾器、活性炭過濾器、軟水器、過濾器、反滲透主機、紫外殺菌器/臭氧殺菌器、純水箱等。
反滲透純水設備特點:
1.根據項目原水特征,結合已有的經驗,在確保出水達標的前提下,采用成熟、可靠工藝;
2.系統(tǒng)運行要求低能耗、低費用;
3.系統(tǒng)設備采用實現(xiàn)標準化、模塊化和系統(tǒng)化的設計方式,以便快速安裝和以后系統(tǒng)維護;
4.設備選型經濟合理、節(jié)能,較大可能地減少維修費用為原則;
5.自動化控制設備以及主要檢測儀器;
6.方案設計合理、運行穩(wěn)定、產水的品質滿足設計要求,并已在多項類似工程中得到應用及檢驗。
反滲透純水設備應用范圍:
1.化妝品行業(yè):
護膚品生產用純水、洗發(fā)水生產用純水、染發(fā)劑生產用純水、牙膏生產用純水 、洗手液生產用水。
2.食品、飲料、純凈水行業(yè):
食品生產用水和飲料生產用水以及純凈水的生產
3.電子工業(yè):
鋁箔清洗;電子管噴涂配液;顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液:晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業(yè):
蓄電池生產用純水、鋰電池生產用純水、太陽能電池生產用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水:
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業(yè):
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業(yè):
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。

貴州反滲透設備,反滲透純水設備濾芯濾料的維護方法
為了使反滲透純水設備長期穩(wěn)定地達到凈水效果,滿足客戶的需求。定期保養(yǎng)是必要的。以下是反滲透純水設備濾芯濾料的維護方法。
反滲透純水設備的維修主要包括更換濾料、化學清洗或反滲透膜的更換、設備的檢查和維修等。常用濾芯:精密濾芯、反滲透膜;過濾材料:石英砂、活性炭、錳砂。
更換濾芯材料:濾芯通常每季度更換一次,也可以根據自己設備的實際需要更換。濾料是自動清洗的。在檢查反滲透純水設備的完整性后,新的濾芯被填滿。同時對易損的零件,如五金件、密封圈等進行修復或更換。
反滲透膜的化學清洗:對反滲透膜進行的化學清洗流程包括酸洗和堿洗,是為了清除膜元件表面的污染物,污染物一般包括無機鹽、金屬氧化物、無機膠體(泥砂微粒)、生物膜、有機物、硅等。清洗完畢可進行膜元件的停機保養(yǎng)或開機運行。

超濾膜的分類:
超濾膜按結構型式分為板框式(板式)、中空纖維式、納米膜表超濾膜、管式、卷式等多種結構。其中,中空纖維超濾膜是超濾技術中為成熟與的一種形式。中空纖維外徑0.4-2.0mm,內徑0.3-1.4mm,中空纖維管壁上布滿微孔,孔徑以能截留物質的分子量表達,截留分子量可達幾千至幾十萬。原水在中空纖維外側或內腔加壓流動,分別構成外壓式與內壓式中空超濾膜。超濾是動態(tài)過濾過程,被截留物質可隨濃縮液排除不致堵塞膜表面,可長期連續(xù)運行。
超濾技術的應用:
早期的工業(yè)超濾應用于廢水和污水處理。三十多年來,隨著超濾技術的發(fā)展,如今超濾膜技術的應用領域已經很廣,主要包括生活飲用水、食品工業(yè)、飲料工業(yè)、乳品工業(yè)、生物發(fā)酵、生物、化工、生物制劑、制劑、、印染廢水、食品工業(yè)廢水處理、資源回收以及環(huán)境工程等等。
超濾設備的優(yōu)點:
A、超濾膜元件采用世界膜公司產品,確保了客戶得到目前世界上質的有機膜元件,從而確保截留性能和膜通量。
B、系統(tǒng)回收率高,所得產品品良,可實現(xiàn)物料的分離、純化及高倍數濃縮。
C、處理過程無相變,對物料中組成成分無任何不良影響,且分離、純化、濃縮過程中始終處于常溫狀態(tài),特別適用于熱敏性物質的處理,完全避免了高溫對生物活性物質破壞這一弊端,有效保留原物料體系中的生物活性物質及營養(yǎng)成分。
D、系統(tǒng)能耗低,生產周期短,與傳統(tǒng)工藝設備相比,設備運行費用低,能有效降低生產成本,提高企業(yè)經濟效益。
E、系統(tǒng)工藝設計,集成化程度高,結構緊湊,占地面積少,操作與維護簡便,工人勞動強度低。
F、系統(tǒng)制作材質采用衛(wèi)生級管閥,現(xiàn)場清潔衛(wèi)生,滿足GMP或FDA生產規(guī)范要求。G.控制系統(tǒng)可根據用戶具體使用要求進行個性化設計,結合的控制軟件,現(xiàn)場在線集中重要工藝操作參數,避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)長期穩(wěn)定運行。
中空纖維超濾膜在使用中應注意事項:
A、過濾系統(tǒng)要定期滅菌。 超濾膜可以截留,但不可以殺死,截留率再好的超濾膜也不能長期保證干凈區(qū)不長一個,有就可能大量繁殖。直接影響到透過水質,譬如有的礦泉水成品中出現(xiàn)半透明絲狀白色絮狀的霉菌團,主要是系統(tǒng)被霉菌污染所致。因此,必須定期對周轉環(huán)境及過濾系統(tǒng)進行定期滅菌,滅菌的操作周期因供給原水的水質情況而定,對于城市普通自來水而言,夏季7~10天,冬季30~40天,春秋季20~30天。地表水作為供給水源時,滅菌周期更短。滅菌藥品可用500~1000mg/L次氯酸鈉溶液或1%過氧化氫水溶液循環(huán)流或浸泡約半小時即可。
B、由于每根超濾組件在出廠前加入保護液,使用前要徹底沖洗組件中的保護液,先用低壓(0.1MPa)給水沖洗1小時,然后再用高壓(0.2MPa)給水沖洗1小時,無論低壓還是高壓沖洗時,系統(tǒng)的產水排放閥均應全部打開。在使用產水時,應檢查并確認產品水中不含有任何殺菌劑。
C、超濾組件要輕拿輕放,并注意保護,由于超濾組件是精密器材,所以在使用安裝時要小心,要輕拿輕放,更不能甩壞。組件若停用,要先用清水沖洗干凈后,加0.5%水溶液進行消毒滅菌,并密封好。如冬天組件還要進行防凍處理,否則組件可能報廢。

產品介紹
反滲透純水設備用于新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術相結合制取的純水,這樣才能提高純水的純度,符合用水需求。
而制藥行業(yè)純水設備采用雙級反滲透技術與純化、殺菌技術相結合,出水水質達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。
工藝設計
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
設備特點
1.采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉。
2.無需酸堿處理,環(huán)保無“三廢”。
3.自動控制,自動維護,水質在線檢測,隨時監(jiān)測水質變化。
4.切合當地水質的個性化設計,滿足需求。
5.全自動控制系統(tǒng),日常操作極為簡便,系統(tǒng)自動進行沖洗維護,制取產品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設計,不但可以制造超純水,還生產純水,方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
7.預留了升級空間。可以根據用戶需要輕松實現(xiàn)功能升級。
技術參數
電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業(yè)部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業(yè)部高純水水質試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規(guī)模集成電路水質標準。
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